晶圓缺陷檢測光學系統適用于哪些領域的應用?1、半導體生產:晶圓缺陷檢測光學系統可以自動檢測和分類各種類型的表面缺陷,包括晶圓表面的麻點、劃痕、坑洼、顏色變化等,可以實現半導體生產過程的實時監控和質量控制,提高工藝的穩定性和產品的質量。2、光電子:晶圓缺陷檢測光...
電阻率測量儀由哪些結構組成?1. 探頭或電極:電阻率測量儀的探頭或電極是負責接觸被測樣品的部件,通常與測試物品相連,以便其測量電阻率變化。2. 儀表或顯示器:電阻率測量儀的儀表或顯示器是控制測量參數和顯示實時測量數據的部分,在測量過程中可以實時地顯示被測材料的...
電阻率測量儀的重要性:電阻率測量儀可以對各種材料、元器件的電性參數進行測量和分析,能夠為工程師、技術人員以及制造商提供重要的信息和數據,以指導高質量產品的開發和生產。具體來說,電阻率測量儀的重要性表現在以下幾個方面:1. 保證產品質量:在生產過程中,電阻率測量...
薄膜應力分析儀其原理是通過激光掃描樣品表面,再通過斯托尼方程換算得到應力分析結果的。一般薄膜應力分析儀具有什么優勢特點?1.非接觸測量:薄膜應力分析儀是一種非接觸式測量設備,可以在不破壞樣品表面的情況下,對薄膜應力進行測量。2.高精度測量:薄膜應力分析儀可以測...
薄膜應力分析儀怎么樣?有什么獨特之處?1. 測量方式靈活:薄膜應力分析儀可以使用多種測量方法的技術,包括光學和機械測量方法等。光學方法包括X光衍射、拉曼散射、橢偏光等方法,機械方法包括曲率法、剝離法等方法,可以更加廣闊地分析和測試薄膜的物理性質。2. 非接觸式...
電阻率測量儀是一種用來測量物質電阻率的儀器。簡單來說,電阻率是一個物質所具有的抵抗電流流動的能力,是電阻與導電性的綜合表現,對于材料的導電性能及電器性能的表現都有著重要的影響。因此,測量物質的電阻率是普遍應用于材料研究、電子工業、半導體等領域中。電阻率測量儀需...
GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統集成的模塊化大批量生產系統,用于對準晶圓鍵合特色技術數據GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統可實現ZUI高水平的自動化和過程集成。批量生產的晶圓對晶圓對準和ZUI大200毫米(300毫米)的晶圓鍵合工藝都在一個全自動平臺上執行。...
鍵合機特征 高真空,對準,共價鍵合 在高真空環境(<5·10-8mbar)中進行處理 原位亞微米面對面對準精度 高真空MEMS和光學器件封裝原位表面和原生氧化物去除 優異的表面性能 導電鍵合 室溫過程 多種材料組合,包括金屬(鋁) 無應力鍵合界面 高鍵合強度 ...
從表面上看,“引線鍵合”似乎只是焊接的另一個術語,但由于涉及更多的變量,因此該過程實際上要復雜得多。為了將各種組件長久地連接在一起,在電子設備上執行引線鍵合過程,但是由于項目的精致性,由于它們的導電性和相對鍵合溫度,通常jin應用金,鋁和銅。通過使用球形鍵合或...
GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統集成的模塊化大批量生產系統,用于對準晶圓鍵合特色技術數據GEMINI自動化生產晶圓鍵合系統可實現ZUI高水平的自動化和過程集成。批量生產的晶圓對晶圓對準和ZUI大200毫米(300毫米)的晶圓鍵合工藝都在一個全自動平臺上執行。...
鍵合機特征 高真空,對準,共價鍵合 在高真空環境(<5·10-8mbar)中進行處理 原位亞微米面對面對準精度 高真空MEMS和光學器件封裝原位表面和原生氧化物去除 優異的表面性能 導電鍵合 室溫過程 多種材料組合,包括金屬(鋁) 無應力鍵合界面 高鍵合強度 ...
EVG?520IS晶圓鍵合機系統:單腔或雙腔晶圓鍵合系統,用于小批量生產。EVG520IS單腔單元可半自動操作ZUI大200mm的晶圓,適用于小批量生產應用。EVG520IS根據客戶反饋和EVGroup的持續技術創新進行了重新設計,具有EVGroup專有的對稱...
EVG?820層壓系統 將任何類型的干膠膜(膠帶)自動無應力層壓到晶圓上 特色 技術數據 EVG820層壓站用于將任何類型的干膠膜自動,無應力地層壓到載體晶片上。這項獨特的層壓技術可對卷筒上的膠帶進行打孔,然后將其對齊并層壓到晶圓上。該材料通常是雙面膠帶。利用...
ZiptronixInc.與EVGroup(簡稱“EVG”)近日宣布已成功地在客戶提供的300毫米DRAM晶圓實現亞微米鍵合后對準精度。方法是在EVGGeminiFB產品融合鍵合機和SmartViewNT鍵合對準機上采用Ziptronix的DBI混合鍵合技術。...
從表面上看,“引線鍵合”似乎只是焊接的另一個術語,但由于涉及更多的變量,因此該過程實際上要復雜得多。為了將各種組件長久地連接在一起,在電子設備上執行引線鍵合過程,但是由于項目的精致性,由于它們的導電性和相對鍵合溫度,通常jin應用金,鋁和銅。通過使用球形鍵合或...
根據型號和加熱器尺寸,EVG500系列鍵合機可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產、研發,并且可以通過簡單的方法進行大批量生產,因為鍵合程序可以轉移到EVGGEMINI大批量生產系統中。鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,...
EVG?560自動晶圓鍵合機系統全自動晶圓鍵合系統,用于大批量生產特色技術數據EVG560自動化晶圓鍵合系統蕞多可容納四個鍵合室,并具有各種鍵合室配置選項,適用于所有鍵合工藝和蕞/大300mm的晶圓。EVG560鍵合機基于相同的鍵合室設計,并結合了EVG手動鍵...
EVGroup開發了MLE?(無掩模曝光)技術,通過消除與掩模相關的困難和成本,滿足了HVM世界中設計靈活性和蕞小開發周期的關鍵要求。MLE?解決了多功能(但緩慢)的開發設備與快速(但不靈活)的生產之間的干擾。它提供了可擴展的解決方案,可同時進行裸片和晶圓級設...
EVG?510鍵合機特征 獨特的壓力和溫度均勻性 兼容EVG機械和光學對準器 靈活的設計和配置,用于研究和試生產 將單芯片形成晶圓 各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合) 可選的渦輪泵(<1E-5mbar) 可升級用于陽極鍵合 開室設計,易于轉換和維護 生產...
對準晶圓鍵合是晶圓級涂層,晶圓級封裝,工程襯底zhizao,晶圓級3D集成和晶圓減薄方面很有用的技術。反過來,這些工藝也讓MEMS器件,RF濾波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS圖像傳感器)的生產迅速增長。這些工藝也能用于制造工程襯底,例如SOI(絕緣體上...
ZiptronixInc.與EVGroup(簡稱“EVG”)近日宣布已成功地在客戶提供的300毫米DRAM晶圓實現亞微米鍵合后對準精度。方法是在EVGGeminiFB產品融合鍵合機和SmartViewNT鍵合對準機上采用Ziptronix的DBI混合鍵合技術。...
在將半導體晶圓切割成子部件之前,有機會使用自動步進測試儀來測試它所攜帶的眾多芯片,這些測試儀將測試探針順序放置在芯片上的微觀端點上,以激勵和讀取相關的測試點。這是一種實用的方法,因為有缺陷的芯片不會被封裝到ZUI終的組件或集成電路中,而只會在ZUI終測試時被拒...
用晶圓級封裝制造的組件被guangfan用于手機等消費電子產品中。這主要是由于市場對更小,更輕的電子設備的需求,這些電子設備可以以越來越復雜的方式使用。例如,除了簡單的通話外,許多手機還具有多種功能,例如拍照或錄制視頻。晶圓級封裝也已用于多種其他應用中。例如,...
EVG?850TB臨時鍵合機特征:開放式膠粘劑平臺;各種載體(硅,玻璃,藍寶石等);適用于不同基板尺寸的橋接工具功能;提供多種裝載端口選項和組合;程序控制系統;實時監控和記錄所有相關過程參數;完全集成的SECS/GEM接口;可選的集成在線計量模塊,用于自動反饋...
EVG?810LT技術數據晶圓直徑(基板尺寸)50-200、100-300毫米LowTemp?等離子活化室工藝氣體:2種標準工藝氣體(N2和O2)通用質量流量控制器:自校準(高達20.000sccm)真空系統:9x10-2mbar腔室的打開/關閉:自動化腔室的...
根據型號和加熱器尺寸,EVG500系列鍵合機可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產、研發,并且可以通過簡單的方法進行大批量生產,因為鍵合程序可以轉移到EVGGEMINI大批量生產系統中。鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,...
EVG?810LT LowTemp?等離子基活系統 適用于SOI,MEMS,化合物半導體和先進基板鍵合的低溫等離子體活化系統 特色 技術數據 EVG810LTLowTemp?等離子活化系統是具有手動操作的單腔獨力單元。處理室允許進行異位處理(晶圓被一一基活并結...
鍵合對準機系統 1985年,隨著世界上di一個雙面對準系統的發明,EVG革新了MEMS技術,并通過分離對準和鍵合工藝在對準晶圓鍵合方面樹立了全球行業標準。這種分離導致晶圓鍵合設備具有更高的靈活性和通用性。EVG的鍵合對準系統提供了蕞/高的精度,靈活性和易用性以...
真空系統:9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(ZUI大)。2%濃...
什么是YONG久鍵合系統呢?EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對準與鍵合步驟分離開來,立即在業內掀起了市場GEMING。利用高溫和受控氣體環境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當今的工藝標準,EVG的鍵合機設備占據了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝...