半導(dǎo)體應(yīng)變片:用于車(chē)輛等機(jī)械量測(cè)量的元件.半導(dǎo)體應(yīng)變片是將單晶硅錠切片、研磨、腐蝕壓焊引線，結(jié)尾粘貼在鋅酚醛樹(shù)脂或聚酰亞胺的襯底上制成的。是一種利用半導(dǎo)體單晶硅的壓阻效應(yīng)制成的一種敏感元件。利用半導(dǎo)體單晶硅的壓阻效應(yīng)制成的一種敏感元件，又稱(chēng)半導(dǎo)體應(yīng)變片。壓阻效應(yīng)是半導(dǎo)體晶體材料在某一方向受力產(chǎn)生變形時(shí)材料的電阻率發(fā)生變化的現(xiàn)象（見(jiàn)壓阻式傳感器）。半導(dǎo)體應(yīng)變片需要粘貼在試件上測(cè)量試件應(yīng)變或粘貼在彈性敏感元件上間接地感受被測(cè)外力。晶圓表面測(cè)量可以在各種各樣的目標(biāo)上進(jìn)行測(cè)量。廣州光電激光干涉儀

薄膜型半導(dǎo)體應(yīng)變片

這種應(yīng)變片是利用真空沉積技術(shù)將半導(dǎo)體材料沉積在帶有絕緣層的試件上或藍(lán)寶石上制成的。它通過(guò)改變真空沉積時(shí)襯底的溫度來(lái)控制沉積層電阻率的高低，從而控制電阻溫度系數(shù)和靈敏度系數(shù)。因而能制造出適于不同試件材料的溫度自補(bǔ)償薄膜應(yīng)變片。薄膜型半導(dǎo)體應(yīng)變片吸收了金屬應(yīng)變片和半導(dǎo)體應(yīng)變片的優(yōu)點(diǎn)，并避免了它的缺點(diǎn)，是一種較理想的應(yīng)變片。

外延型半導(dǎo)體應(yīng)變片

這種應(yīng)變片是在多晶硅或藍(lán)寶石的襯底上外延一層單晶硅而制成的。它的優(yōu)點(diǎn)是取消了P-N結(jié)隔離，使工作溫度大為提高(可達(dá)300℃以上)。 韶關(guān)激光干涉儀深度測(cè)量皮 米 精 度 位 移 傳 感 器。

從激光器發(fā)出的光束，經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直后由分光鏡分為兩路，并分別從固定反射鏡和可動(dòng)反射鏡反射回來(lái)會(huì)合在分光鏡上而產(chǎn)生干涉條紋。當(dāng)可動(dòng)反射鏡移動(dòng)時(shí)，干涉條紋的光強(qiáng)變化由接受器中的光電轉(zhuǎn)換元件和電子線路等轉(zhuǎn)換為電脈沖信號(hào)，經(jīng)整形、放大后輸入可逆計(jì)數(shù)器計(jì)算出總脈沖數(shù)，再由電子計(jì)算機(jī)按計(jì)算式[356-11]式中λ為激光波長(zhǎng)(N為電脈沖總數(shù))，算出可動(dòng)反射鏡的位移量L。使用單頻激光干涉儀時(shí)，要求周?chē)髿馓幱诜€(wěn)定狀態(tài)，各種空氣湍流都會(huì)引起直流電平變化而影響測(cè)量結(jié)果。

光電效應(yīng)分為：外光電效應(yīng)和內(nèi)光電效應(yīng)。內(nèi)光電效應(yīng)是被光激發(fā)所產(chǎn)生的載流子（自由電子或空穴）仍在物質(zhì)內(nèi)部運(yùn)動(dòng)，使物質(zhì)的電導(dǎo)率發(fā)生變化或產(chǎn)生光生伏特的現(xiàn)象。外光電效應(yīng)是被光激發(fā)產(chǎn)生的電子逸出物質(zhì)表面，形成真空中的電子的現(xiàn)象。外光電效應(yīng)在光的作用下，物體內(nèi)的電子逸出物體表面向外發(fā)射的現(xiàn)象叫做外光電效應(yīng)。外光電效應(yīng)的一些實(shí)驗(yàn)規(guī)律a．只當(dāng)照射物體的光頻率不小于某個(gè)確定值時(shí)，物體才能發(fā)出光電子，這個(gè)頻率叫做極限頻率(或叫做截止頻率)，相應(yīng)的波長(zhǎng)λ0叫做極限波長(zhǎng)。不同物質(zhì)的極限頻率和相應(yīng)的極限波長(zhǎng) 是不同的。在2000轉(zhuǎn)/分時(shí)，電動(dòng)機(jī)產(chǎn)生270Hz的振動(dòng)，反過(guò)來(lái) 以345Hz放大系統(tǒng)諧振。

激光干涉儀系統(tǒng)可同步測(cè)量大型龍門(mén)移動(dòng)式數(shù)控機(jī)床:雙軸定位精度的檢測(cè)及其自動(dòng)補(bǔ)償雷尼紹雙激光干涉儀系統(tǒng)可同步測(cè)量大型龍門(mén)移動(dòng)式數(shù)控機(jī)床，由雙伺服驅(qū)動(dòng)某一軸向運(yùn)動(dòng)的定位精度，而且還能通過(guò)RS232接口，自動(dòng)對(duì)兩軸線性誤差分別進(jìn)行補(bǔ)償。數(shù)控機(jī)床動(dòng)態(tài)性能檢測(cè)利用RENISHAW動(dòng)態(tài)特性測(cè)量與評(píng)估軟件，可用激光干涉儀進(jìn)行機(jī)床振動(dòng)測(cè)試與分析（FFT），滾珠絲杠的動(dòng)態(tài)特性分析，伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的響應(yīng)特性分析，導(dǎo)軌的動(dòng)態(tài)特性（低速爬行）分析等。100pm/步的線性偏移被確定。番禺區(qū)電子激光干涉儀

膨脹計(jì)：熱膨脹和磁致伸縮測(cè)量。廣州光電激光干涉儀

頻率影響

1 當(dāng)頻率自額定值偏離±10%(但對(duì)相位表和功率因數(shù)表為±2%，對(duì)單相無(wú)功功率表為±5%)時(shí)，由此所引起的儀表指示值的改變應(yīng)不超過(guò)表7 中的規(guī)定值。如果在儀表上注明額定頻率范圍，則在此范圍內(nèi)的任一頻率下，儀表的基本誤差都應(yīng)不超過(guò)規(guī)定值。如果在儀表上除注明額定頻率外，還注明有擴(kuò)大的頻率范圍時(shí)，則在此范圍內(nèi)的任一頻率下，儀表的基本誤差應(yīng)不超過(guò)表7 中規(guī)定值的兩倍。儀表輔助電路的電源，當(dāng)其頻率自額定值偏離±2%時(shí)，由此引起的儀表指示值的改變，應(yīng)不超過(guò)表7 規(guī)定值的一半。

2 檢驗(yàn)頻率的影響時(shí)，應(yīng)遵守有關(guān)規(guī)定(對(duì)頻率的規(guī)定除外)，且應(yīng)除去變差影響。試驗(yàn)是在標(biāo)度尺的幾何中心附近和上量限附近的兩點(diǎn)分度線上進(jìn)行。相位表在額定電流下進(jìn)行，功率表在額定功率因數(shù)下進(jìn)行。 廣州光電激光干涉儀