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電動閘閥

來源: 發布時間:2024-06-24

微泰,多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。微泰多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥其特點是?操作模式:本地和遠程?緊急情況:自動關閉?慢速泵送功能。多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥規格如下:材料:閥體 STS304, 機制 STS304、法蘭尺寸(內徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關振動 無振動、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動電導(ISO100)1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置:任意。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。 閘閥體內設一個與介質流向成垂直方向的平面閘板,靠這一閘板的升降來開啟或關閉介質的通路。電動閘閥

閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用??刂葡到y閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態,并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關閉,以調節壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。屏蔽閘閥I型轉移閥微泰,高壓閘閥應用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。

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微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態,并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關閉,以調節壓力。微泰半導體多定位閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環??萍加邢薰咎峁?/p>

微泰,定制大型轉移閥,定制大型輸送閥,?應用:大型涂層系統。定制大型轉移閥,定制大型輸送閥規格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:(內徑)80×500、(內徑)100×400、(內徑)200×1800、(內徑)650×1050等法蘭類型:定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率:泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護前可用次數:10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:材料:不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6 ~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環??萍加邢薰?。為特定的真空系統和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關重要。

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半導體真空插板閥是一種用于半導體制造過程中的真空系統的閥門,主要作用是控制氣體的流動,以維持真空環境的穩定。微泰半導體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結構,能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導體制造過程中的化學物質環境中穩定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導體制造工藝對精度的要求。4. 快速響應:可以快速地開啟和關閉,以適應半導體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設計和制造過程嚴格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩定性。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。真空閘閥廣泛應用于各個行業,包括半導體制造、研發、分析類儀器和真空鍍膜。屏蔽閘閥I型轉移閥

當真空閥打開時,閘門移出流路,使氣體以高電導率通過。電動閘閥

微泰半導體閘閥的特點,首先介紹一下起三重保護的保護環機能,采用鋁質材料減少重量,并提高保護環的內部粗糙度,防止工程副產物堆積黏附。提升保護環內部流速設計,保護環逐步收窄,提升流速,防止粉塵黏附。采用三元系O型圈,保證保護環驅動穩定(保證30萬次驅動)。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環??萍加邢薰尽k妱娱l閥

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