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【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料c...

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】 ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達...

【真空鍍膜設備維修保養技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環境（室內環境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回...

【真空鍍膜設備維修保養技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環境（室內環境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環...

【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經測試分光不良,此類不良主要按六節所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發現錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續努...

【真空鍍膜設備的維修及保養方法】 1.真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層...

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質中的工件的原子轉化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料： 1.da多數金屬都可以被電解拋光，其中*常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于...

【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養導致灰塵太多。真空鍍膜設備在鍍膜過程中容易產生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時間久了容易對轉子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當的增加環...

【光學鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發材料的蒸汽發生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線，即產生打火。另外，若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源...

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中...

【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，所以檢漏是必不可少的。 一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體，有可能誤以為是從外部流進的氣體...

【光學鍍膜機的清洗】設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸...

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導】真空泵安裝指導 1、泵應安裝在地面結實堅固的場所，周圍應留有充分的余地，便于檢查、維護、保養。 2、泵底座下應保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉平穩，振動小。 3、泵與系統的連接管道應密封可靠，...

【光學薄膜制備技術之物理qi相學沉積(PVD)】 物理qi相沉積法，簡單地說是在真空環境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術。 1) 熱蒸發：光學薄膜器件主要采用...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產方式包括間歇式和連續式生產法，其中連續式生產法又可分為水平和垂直連續式生產兩種。其中，水平連續式生產法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優點...

【光學鍍膜機的維護與保養之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發源控制系統是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅動電源、蒸發源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內含有高壓，在工作前必須保證柜門各個聯鎖裝置正常工作...

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質中的工件的原子轉化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料： 1.da多數金屬都可以被電解拋光，其中*常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于...

【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料c...

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統：排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。...

【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】 氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統，可以dada縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da...

【真空鍍膜設備維修保養技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環境（室內環境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回...

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質中的工件的原子轉化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料： 1.da多數金屬都可以被電解拋光，其中*常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。 表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機械打磨，化學處理，表面熱處理，噴涂表面，表面...

【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍...

【光學鍍膜在航天上的應用】在科學衛星表面上鍍鋁和氧化硅膜，衛星的溫度可控制在10～40℃范圍。空間飛行器的主要能源是硅太陽能電池，通常在太陽能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉變成電能的太陽可見光和近紅外區的輻射，反射有害的紅外區熱...

【光學真空鍍膜機之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動能轉為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉換效率,同時也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數目也可精密調控其蒸發速率。電子...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表...

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌...