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在PCB行業中會產生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的重金屬廢水，如果不進行處理就直接排放一方面造成資源的嚴重浪費，另一方面還會嚴重影響我們環境和自身健康！以前對于這些廢液的處理方法是通過投加大量的藥劑實現的，但是傳統的加化學藥劑，操作成本...

據權利要求1至3中任一項所述的蝕刻液，其特征在于，進一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據權利要求4所述的蝕刻液，其特征在于，所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據權利要求1至5中任一項所述的...

蘇州博洋化學股份有限公司研發中心擁有先進的科研生產和檢測設備，專業的研發團隊。致力于電子領域環保、節能、環境友好化學品的研究開發；并根據客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學、蘇州科技大學、上海交通大學等高校研發隊伍為依托，...

通常用于金屬層蝕刻的銅酸蝕刻溶液主要成分為過氧化氫和一些添加劑；過氧化氫用于對金屬進行氧化，而添加劑則主要將氧化物酸化成離子態，使其溶解于溶液中，并且維持蝕刻特性要求。由于過氧化氫同時具有氧化性和還原性，其可以將銅氧化，也可以被金屬離子催化發生歧化分解反應，生...

按照組成成分和應用工藝不同，濕電子化學品可分為通用性和功能性濕電子化學品。通用濕電子化學品以超凈高純試劑為主，一般為單組份、單功能、被大量使用的液體化學品，按照性質劃分可分為：酸類、堿類、有機溶劑類和其他類。酸類包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等...

光電行業的大力發展，致使剝離液被國內外研究人員所關注及研究，雖然在**網及技術網上對剝離液的闡述較少，但當前國內與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果，。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢...

酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內層制作的蝕刻液，隨著電路板行業的迅速發展，產生的廢液量越來越大，發掘的污染物種類也越來越多，對環境造成巨大的危害，此類問題也成為社會的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發生，我們需要對酸性蝕刻液進行回收循環利用。目...

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離子膜電解法是電解槽30陽極可以為石墨板或鈦陽極板，陰極為鈦板，用離子膜將陽極液和陰極液隔離開，陽極為需要再生的蝕刻母液，陰極為銅離子20~100g/l，酸度，電解槽30由數個單元電解槽串聯組成，單元電解槽30由一個或者數個陽極模框組成，酸性蝕刻廢液經循環槽2...

銅酸蝕刻液是半導體和顯示技術中一類重要的原材料。半導體、薄膜晶體管液晶顯示器)，有機發光半導體)等微電路原件首先由銅、鉬或其合金在玻璃基板或者絕緣層上形成一定厚度的膜層，再用光刻膠形成圖案，然后用銅酸蝕刻液將圖案外的金屬蝕刻掉，再用去光阻液將光刻膠去掉，以進行...

離子膜電解法是電解槽30陽極可以為石墨板或鈦陽極板，陰極為鈦板，用離子膜將陽極液和陰極液隔離開，陽極為需要再生的蝕刻母液，陰極為銅離子20~100g/l，酸度，電解槽30由數個單元電解槽串聯組成，單元電解槽30由一個或者數個陽極模框組成，酸性蝕刻廢液經循環槽2...

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蝕刻是印制電路板制造的重要工序，電路板廠生產過程中產生大量高銅蝕刻廢液，蝕刻廢液屬于危險液體廢物，含有大量的銅、氯等污染成分，如果不經過嚴格的處理就直接排放到環境中，不僅造成資源的浪費和損失，而且也會對人類和自然環境造成很大的危害。 另外，蝕刻廢液中...

cm3·mol-1）：36.氣相標準燃燒熱(焓)(kJ·mol-1)：37.氣相標準聲稱熱(焓)(kJ·mol-1)：38.氣相標準熵(J·mol-1·K-1)：39.氣相標準生成自由能(kJ·mol-1)：40.氣相標準熱熔(J·mol-1·K-1)...

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全球范圍內，緩沖氧化物蝕刻液市場主要集中在北美、亞太以及歐洲等地區，其中亞太地區緩沖氧化物蝕刻液市場增速較快，在該區域內，中國、日本以及韓國是緩沖氧化物蝕刻液市場主要參與者。近年來，伴隨全球產業向東轉移，我國半導體、平板顯示等產業規模不斷擴大，這為緩沖氧化...

蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術，蝕刻技術分為濕蝕刻和干蝕刻，其中，濕蝕刻是采用化學試劑，經由化學反應達到蝕刻的目的，薄膜場效應晶體管液晶顯示器(tft～lcd)、發光二極管(led)、有機發光二極管(oled)等行業用作面板過程中銦錫氧化物...

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微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發設計了不同的循環再生設備。無論...

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影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素：1、Cu2+離子濃度的影響：Cu2+是氧化劑，所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關系表明：在0~82g/L時，蝕刻時間長；在82~120g/L時，蝕刻速率較低，且溶液控制困難；在135~...

所述制備裝置主體的內部中間部位活動連接有高效攪拌裝置，所述制備裝置主體的一側中間部位嵌入連接有翻折觀察板，所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座，所述裝置底座的內部底部固定連接有成品罐，所述裝置底座的頂端一側固定連接有鹽酸裝罐，所述裝置底座的頂端另一...

東莞清洗劑廠家價格：電議東莞新球清洗劑廠家生產的工業清洗劑主營產品：工業清洗劑清洗劑廠家電子清洗劑東莞新球環保清洗劑生產廠家易力高ECSP價格：ECSP–強力電子清洗溶劑主營產品：電子清洗劑電子清洗劑電子清洗劑蘇州美溪電子科技有限公司環保、碳氫清和超聲...

1、半導體、液晶生產設備：干法蝕刻裝置、探頭、離子噴射裝置、信息處理機等裝置的控溫冷媒。2、電氣、電子：精密清洗電子零件的顆粒雜質。氣密性測試、耐電壓測試的媒介物。清洗CCD\CMOS圖像感應芯片及模塊。清洗LCD\OLED顯示器、光學零件、鏡片。清洗、干燥M...

產品名稱：LCD清洗劑光學鏡片清洗劑芯片模塊清洗劑產品鏈接：/zhizhangtianjiaji-qingxiji/手機版鏈接：***，包括各種電子元器件、CCD和CMOS圖像感應芯片及模塊、半導體生產裝置零件和腔體、醫療設備零部件、LCD/OLED顯...