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然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂脵E圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量，計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值，對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比，本發(fā)明的有益效果是：醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤性和降低磷酸溶液的表面張力，有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明，但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85％，蝕刻溫度為160...

asícomoeldeinstalaciónypruebasdelosmismos,deacuerdoconunasnormasycóásustituirseporotrodehomologació)Normasdeaplicación:Enlosplanosseindicaránlasnormasdeaplicaciónutilizadasparalaclasificacióndelosemplazamientosasícomolaseleccióndelosmaterialeseléctricos,ándecobre,conaislamientodePVCycubiertaexte...

óónmínimadelapruebaseráóáenellugardefabricacióóáuncertificadodefabricaciónenelquejustifiqueelcumplimientodelaspruebasyexámenesindicadosenestaITC,desglosandomaterialempleado,presióndeprueba,óón(brida,valona,bridaloca,rosca,etc.)atuberíasdellenado,ventilaciónaspiración,etcéántubosdeaceroconformesc...

P101WX7-300BP101WX1-206BP101WX4-206BP101WX1-207BP101WX4-300BP101WX1-204BA101WS2-101BP101WX1-400BP101WX1-210BP101WX1-201BP101WX1-209BP101WX7-100TT101WSB-NW0M097SNX1BP096WX7-100BA090WV2-100HT089WSA-100BP082WX1-100BP080WX7-100BP080WX1-100BP080WX2-200TV080WUM-NL0BP080WX1-200BP080WU1-100BP080WX7-101B

neutroyconductordeproteccióónentreloselementosdelsurtidor(emisordeimpulsos,solenoides,calculador,etc.),seconsiderasuficientelautilizacióndecableconcubiertaexteriordePVC/policloroprenoresistentealoshidrocarburos,detiponoarmadoyaquealserIP-23comomínimoelgradodeprotecciónmecánicadelsurtidor,encondi...

deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósitosnoseránecesarialautilizacióíósitosdeberánllevaradheridaenlapartedelavirolajuntoalabocadehombre,deformaquequedevisibleunavezinstalado,unaplacadecaracterísticasdemetal,e...

litrosdecapacidadnominal:.oParadepósitosde&litrosdecapacidadnominal:óánecesarialaejecucióndeuncubetoestancocontubobuzodetectordefugasparaalojarlosdepóánsuperaralasdelosdepóósitosdistaránentresíunmetrocomomíósitosserellenarádearenadelascaracterísticasqueseindicanenelapartado,inclusosobrelapartesu...

?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargadecisternas,bienporlaoperaciónnormaldemedicióndetanquesomantenimientodelainstalació(zona?O?)seprocuraránoinstalarningúnequipoeléándeacuerdoporloquerespectaamaterialesycanal...

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neutroyconductordeproteccióónentreloselementosdelsurtidor(emisordeimpulsos,solenoides,calculador,etc.),seconsiderasuficientelautilizacióndecableconcubiertaexteriordePVC/policloroprenoresistentealoshidrocarburos,detiponoarmadoyaquealserIP-23comomínimoelgradodeprotecciónmecánicadelsurtidor,encondi...

ósitoyelfondodelfosoolasuperficiedecementodebecolocarseunespesormínimode30centíínimo30centímetrosmásqueloslímitesdeldepóánecesarialainstalacióáánanclarselosdepósitoscuandolasposiblesfuentesdeagua(nivelfreático,aguadelluvia,etc.)áósitosensualojamientosesometeránauncontrol,paracomprobarquenohansuf...

該實(shí)施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為總質(zhì)量的％、％。實(shí)施例2本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實(shí)施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質(zhì)量的％、％。實(shí)施例3本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實(shí)施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為三甘醇單丁醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質(zhì)量的％、％。實(shí)施例4...

然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂脵E圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量，計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值，對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比，本發(fā)明的有益效果是：醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤性和降低磷酸溶液的表面張力，有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明，但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85％，蝕刻溫度為160...

添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為％、％、％。實(shí)施例6本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實(shí)施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質(zhì)量的％、％、％。對(duì)照例對(duì)照例中所含成分顯示于表1，并采用與實(shí)施例相同的方法進(jìn)行處理。對(duì)照例1為純磷酸，總質(zhì)量為400g。對(duì)照例2為磷酸、丙二醇丁醚，其中丙二醇丁醚的添加量為總質(zhì)量的％。對(duì)照例3為磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，其中脂肪醇...

形成氣液混合體，從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液，蝕刻廢液量1000m3/d，相比沒有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，能耗節(jié)約40％，節(jié)約使用藥品100kg/d，經(jīng)濟(jì)效益提高30％。作為本實(shí)施例的一個(gè)示例，電解槽1的陽極可選用石墨電極，陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極，電解槽1中陰極與陽極之間的距離為55mm，電解槽1的電流密度為300a/m2。與實(shí)施例相結(jié)合，圖2示出了本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，在實(shí)施例的基礎(chǔ)上，第二實(shí)施例進(jìn)一步包括曝氣裝置5，曝氣裝置5通過管道深入到再生液調(diào)配缸3的液體中，用于向再...

queseencuentrenentrámitedeautorizaciónenlafechadeentradaenvigordelpresenteRealDecreto,seguiránrigiéánacogersealasprescripcionesestablecidasenlaInstrucciónTécnicaComplementaria,desdeelmomentodesupublicaciónenel?BoletínOficialdelEstado?.Disposicióónalpormenordecarburantesycombustiblespetrolíferose...

chispasocalentamientossuperficialescapacesdeprovocarlaignicióndelaatmóéctricasenlosemplazamientosqueresultenclasificadoscomozonasconpeligrodeexplosiónodeincendio,selesaplicarálasprescripcionesestablecidasenICMIEBT026,áóndelasgasolinasesde280oC,asípueslatemperaturamáximasuperficialdelosmateriales...

odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanproducirarcosotemperaturaselevadas,cuandoseempleentubosdeacero,sedeberáevitarelpasodegasesovaporesinflamables,paraelloserealizaráelselladodeestospasosmediantelautilizacióó...

desecciónmínima16milíóneléctricadelapuestaatierrapodrárealizarseatravésdeuninterruptormanual,congradodeprotecciónadecuadoalaclasificacióásiempredespuésdelaconexióndelapinzaalcamióó?adosparaabastecimientodecarburantesocombustibleslíquidosadepósitosdevehículosamotor,ánserautomáticos,dechorrocontin...

Parasurtidoresencabezalelectrónicoadosadoasucuerpooalacolumnademangueras.)Lasbarrerasdevaportipo1cumpliránlosrequisitossiguientes:1)Labarreradeprotecciónserácontinua;permitiráelpasodecablesytuberíasrí)Elpasodecablesserealizará(EN50018),clá)Nosepercibiráfugaalgunaalaplicaralabarreraunapresióndife...

35kilogramos/centímetrocuadrado).IgualmenteserealizaráunapruebademedicióndieléáncertificadasporunOrganismodecontrolcompetentedebidamenteacreditado..DepósitodepláóónTécnicaComplementariaseentiendepordepósitosdeplásticoreforzadoaquellosdepósitoscilíndricos,deejecuciónhorizontalenplásticoreforzado,...

conunanormaeuropeaENoconunarecomendaciónCEIparaalgunosdelosmodosdeprotecciónsiguientes:1.oInmersiónenaceite?o?.2.oSobrepresióninterna?p?.3.oRellenopulverulento?q?.4.oEnvolventeantideflagrante?d?.5.oSeguridadaumentada?e?.6.oSeguridadintrínseca?i?.7.oEncapsulado?m?.orespaldadosporcertificadosdecon...

sedispondrándispositivosdecorteporintensidaddedefecto,medianteinterruptoresdiferenciales,consensibilidadmáóncontraelectricidadestática,deberárealizarseunauniónequipotencialdemasas,ánestarconectadasaestared,tanquesdealmacenamiento,tuberías,estructurasmetálicas,aparatossurtidores,asícomolosconduct...

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形成氣液混合體，從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液，蝕刻廢液量1000m3/d，相比沒有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，能耗節(jié)約40％，節(jié)約使用藥品100kg/d，經(jīng)濟(jì)效益提高30％。作為本實(shí)施例的一個(gè)示例，電解槽1的陽極可選用石墨電極，陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極，電解槽1中陰極與陽極之間的距離為55mm，電解槽1的電流密度為300a/m2。與實(shí)施例相結(jié)合，圖2示出了本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，在實(shí)施例的基礎(chǔ)上，第二實(shí)施例進(jìn)一步包括曝氣裝置5，曝氣裝置5通過管道深入到再生液調(diào)配缸3的液體中，用于向再...

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gasóleosylubricantesquedistribuyanmenosdetresproductosdiferentesdegasolinasygasóleosdeautomocióáncomolímitesoextremosdeunaestacióndeservicioounidaddesuministro,losdelazonadeterrenoquenecesariamentetienequequedarafectoalaprestacióndeservicio,cuyoslímitesenningúncasopodránsituarseamásde20metrosdel...

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本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來越高，如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí)，晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后...