接觸角測量儀使用方法:在進行水滴角測試時,首先要選擇合適的液體和固體樣品。然后將液滴滴在表面上,通過攝像頭拍攝液滴形狀,并使用相應的軟件進行分析計算。得出水滴角值,評估表面性能。接觸角測量儀校準方法:為確保測試結果的準確性,接觸角測量儀需要定期進行校準。校準方...
在微電子封裝領域,Plasma封裝等離子清洗機發揮著至關重要的作用。隨著集成電路技術的不斷發展,芯片尺寸不斷縮小,對封裝過程中的表面清潔度要求也越來越高。傳統的濕法清洗方法難以徹底去除芯片表面的微小顆粒和有機物殘留,而Plasma封裝等離子清洗機則能夠在分子級...
國產快速退火爐是半導體行業的新亮點。隨著半導體行業的迅猛發展,快速退火爐作為一種重要的設備,正逐漸成為行業的焦點。快速退火爐是一種用于半導體材料退火處理的設備,通過高溫短時間的處理,可以改善材料的電學性能和晶體結構,提高半導體器件的性能和可靠性。相比傳統的退火...
高溫接觸角測量儀的精確性是其主要價值所在。在極端溫度條件下,測量誤差的微小變化都可能對結果產生重大影響。因此,確保測量結果的準確性是研發此類儀器的首要任務。這要求儀器在設計和制造過程中必須嚴格遵循相關標準和規范,確保每一個部件都達到比較高的質量標準。然而,高溫...
plasma等離子清洗機設備等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,...
接觸角測量儀作為一種高精度的測量工具,正逐漸在材料科學、化學、物理等領域發揮著不可或缺的作用。近日,記者走進科研實驗室,一探究竟接觸角測量儀如何精確測量液體與固體之間的接觸角,以及其背后的科學原理。接觸角測量儀,顧名思義,是一種用于測量液體在固體表面接觸角的儀...
RTP快速退火爐是一種常用的熱處理設備,其工作原理是通過高溫加熱和快速冷卻的方式,對材料進行退火處理,達到改善材料性能和組織結構的目的。RTP快速退火爐的工作原理主要分為加熱階段和冷卻階段兩部分。加熱階段是RTP快速退火爐的關鍵步驟之一。在這個階段,首先將待處...
接觸角是指液體與固體表面接觸時所形成的夾角,它直接影響著表面潤濕性以及液體在固體表面上的展開和附著情況。1.接觸角測量儀的原理及工作方式接觸角測量儀通常采用光學或圖像處理的方法來測量接觸角。在實驗中,將待測液體滴于固體表面上,通過儀器記錄液體與固體邊界所形成的...
快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備,其主要目的是通過控制溫度和氣氛,將材料迅速加熱到高溫,然后迅速冷卻以改善其性能或去除材料中的缺陷。快速退火爐具有高溫度控制、快速加熱和冷卻、精確的溫度和時間控制、氣氛控制、應用廣等特點,應用于半導體和材料工業中以...
在電子電路行業中,PCB作為電子產品的主要部件,其表面粘附性對產品的性能有著直接影響。通過等離子處理,可以提高錫膏與PCB之間的粘附力。有助于確保錫膏印刷的均勻性和穩定性,提高電子產品的可靠性和穩定性。在PCBA涂敷三防漆前處理中,等離子技術也發揮著關鍵作用。...
Plasma封裝等離子清洗機,顧名思義,其主要在于利用等離子體(Plasma)這一高能態物質對材料表面進行深度清潔與改性。在真空環境下,通過高頻電場激發工藝氣體,使其電離形成等離子體。這些等離子體中的高能粒子、自由基等活性物質,能夠迅速與材料表面的污染物發生反...
Plasma封裝等離子清洗機,顧名思義,其主要在于利用等離子體(Plasma)這一高能態物質對材料表面進行深度清潔與改性。在真空環境下,通過高頻電場激發工藝氣體,使其電離形成等離子體。這些等離子體中的高能粒子、自由基等活性物質,能夠迅速與材料表面的污染物發生反...
RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火爐是一種用于半導體器件制造和材料研究的設備,其工作原理是通過快速升溫和降溫來處理材料,以改變其性質或結構。RTP退火爐通常用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長等應用。RTP...
半導體快速退火爐(RTP)是一種特殊的加熱設備,能夠在短時間內將半導體材料迅速加熱到高溫,并通過快速冷卻的方式使其達到非常高的溫度梯度。快速退火爐在半導體材料制造中廣泛應用,如CMOS器件后端制程、GaN薄膜制備、SiC材料晶體生長以及拋光后退火等。半導體快速...
半導體芯片作為現代電子設備的組成部分,其質量和可靠性對整個電子行業至關重要。Die Bonding是將芯片裝配到基板或者框架上去,基板或框架表面是否存在有機物污染和氧化膜,芯片背面硅晶體的浸潤性等均會對粘接效果產生影響,傳統的清洗方法已經無法滿足對芯片質量的要...
接觸角分為靜態接觸角和動態接觸角。靜態接觸角是指液體與固體表面相接觸時,所形成的接觸角,不隨時間變化。接觸角測量儀可以通過將固體樣品放置在水滴上并記錄其與固體表面接觸時的水滴形狀來測量靜態接觸角。該儀器會自動計算出水滴與固體表面之間的夾角,從而得到靜態接觸角的...
芯片封裝等離子體應用包括用于晶圓級封裝的等離子體晶圓清洗、焊前芯片載體等離子體清洗、封裝和倒裝芯片填充。電極的表面性質和抗組分結構對顯示器的光電性能都有重要影響。為了保的像素形成和大的亮度,噴墨印刷的褶皺材料需要非常特殊的表面處理。這種表面工程是利用平面微波等...
接觸角測量儀是一種常用于測量液體與固體表面之間接觸角的儀器,而滾動角是指液體在固體表面滾動的角度。為了使用接觸角測量儀測試滾動角,可以按照以下步驟進行操作:1.準備樣品和測試環境首先需要準備一個液體樣品,以及一個固體樣品。將液體樣品倒入接觸角測量儀的樣品池中,...
在半導體制造行業,等離子清洗機被廣泛應用于晶圓清洗、封裝前處理等環節。通過去除芯片表面的微小顆粒、有機物殘留和金屬離子等污染物,確保芯片的純凈度和可靠性,提高成品率和性能。在精密機械領域,等離子清洗技術用于清洗精密零件表面,去除油漬、銹跡和氧化物等,改善零件的...
表面自由能是與固體粘附力的重要變量之一。具有高表面自由能的固體(如金屬)通常更易于涂覆或粘合,對于具有低表面自由能的材料(特別是塑料),經常用電暈、等離子處理、火焰處理和化學處理等方法增加其表面自由能。可根據幾種液體的接觸角值測定固體的表面自由能,然后通過分別...
水滴角接觸角測量儀具有以下幾個好處:1.評估材料表面性質:通過測量接觸角,可以準確評估材料表面的潤濕性質。潤濕性對于許多應用來說是非常重要的,例如涂層材料、納米材料、生物材料等。了解材料的潤濕性能可以幫助我們選擇合適的材料,優化涂層性能,改進納米材料的應用等。...
光學接觸角測量儀可以記錄液滴圖像并且自動分析液滴的形狀.液滴形狀是液體表面張力、重力和不同液體樣品的密度差和濕度差及環境介質的函數。在固體表面上,液滴形狀和接觸角也依賴于固體的特性(例如表面自由能和形貌)。使用液滴輪廓擬合方法對獲得的圖像進行分析,測定接觸角和...
光刻膠是芯片制造過程中必不可少的材料之一,它被應用于半導體工藝中,用于圖形轉移和微細結構制作。在光刻膠的研發和生產過程中,了解其表面特性非常重要,包括表面張力、潤濕性以及接觸角等參數。視頻光學接觸角測量儀利用先進的視頻成像技術和光學原理來測量樣品表面與液體滴落...
靜態接觸角測量是常見的方法之一。它通過將液滴緩慢滴落在固體表面上,然后使用高精度相機或顯微鏡拍攝圖像,并利用圖像處理軟件分析液滴邊界與固體表面的接觸角。這種方法通常用于測量固體表面性質的靜態接觸角,例如潤濕性或液體在固體上的吸附能力。動態接觸角測量是在液滴與固...
隱形眼鏡直接接觸眼睛,其潤濕性是決定配戴舒適度的重要因素之一。當淚液在鏡片表面的接觸角越小,它的鋪展程度就越大,形成的眼淚薄膜也越穩定,對眼表能起到良好的保濕和潤滑作用。在鍍膜前通過等離子處理可以有效提高鏡片表面潤濕性,提升隱形眼鏡品質,改善客戶的佩戴體驗效果...
半導體快速退火爐(RTP)是一種特殊的加熱設備,能夠在短時間內將半導體材料迅速加熱到高溫,并通過快速冷卻的方式使其達到非常高的溫度梯度。快速退火爐在半導體材料制造中廣泛應用,如CMOS器件后端制程、GaN薄膜制備、SiC材料晶體生長以及拋光后退火等。半導體快速...
表面自由能是與固體粘附力的重要變量之一。具有高表面自由能的固體(如金屬)通常更易于涂覆或粘合,對于具有低表面自由能的材料(特別是塑料),經常用電暈、等離子處理、火焰處理和化學處理等方法增加其表面自由能。可根據幾種液體的接觸角值測定固體的表面自由能,然后通過分別...
便攜式接觸角測量儀采用視頻外觀輪廓分析方法,測量液體與固體之間的接觸角,測量固體表面能.對于一些超大玻璃,觸摸屏檢測,或者是需要外帶接觸角工作的場景,便攜式接觸角沒理儀非常好的滿意用戶的需求。產品特點:體積小,重量輕,可手持測量超大平面產品。考慮周到的結構,以...
退火:往半導體中注入雜質離子時,高能量的入射離子會與半導體晶格上的原子碰撞,使一些晶格原子發生位移,結果造成大量的空位,將使得注入區中的原子排列混亂或者變成為非晶區,所以在離子注入以后必須把半導體放在一定的溫度下進行退火,以恢復晶體的結構和消除缺陷。同時,退火...
水滴角接觸角測量儀用于測試和分析液體在固體表面的接觸角、液體的表面張力、固體的表面能等。實現對固體表面的親/疏水性分析、潤濕性分析、潔凈度檢測、處理效果評估,以及液體被競爭、吸附、吸收和鋪展等過程分析。廣泛應用于化工、醫藥、食品、電子、印染、噴涂和科教等眾多領...