資料匯總12--自動(dòng)卡條夾緊機(jī)-常州昱誠凈化設(shè)備
初效折疊式過濾器五點(diǎn)設(shè)計(jì)特點(diǎn)-常州昱誠凈化設(shè)備
有隔板高效過濾器對工業(yè)凈化的幫助-常州昱誠凈化設(shè)備
從工業(yè)角度看高潔凈中效袋式過濾器的優(yōu)勢-常州昱誠凈化設(shè)備
F9中效過濾器在工業(yè)和通風(fēng)系統(tǒng)的優(yōu)勢-常州昱誠凈化設(shè)備
資料匯總1:過濾器內(nèi)框機(jī)——常州昱誠凈化設(shè)備
工業(yè)中效袋式過濾器更換流程及注意事項(xiàng)-常州昱誠凈化設(shè)備
高潔凈中效袋式過濾器的清洗流程-常州昱誠凈化設(shè)備
F9中效袋式過濾器清洗要求及安裝規(guī)范-常州昱誠凈化設(shè)備
中效f7袋式過濾器的使用說明-常州昱誠凈化設(shè)備
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會(huì)沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
多弧離子鍍膜機(jī)是一種基于 電弧離子鍍技術(shù)(Arc Ion Plating, AIP)的真空鍍膜設(shè)備,主要用于在工件表面沉積高性能薄膜(如硬質(zhì)涂層、裝飾涂層、功能涂層等)。其原理是通過電弧放電使靶材離子化,然后在電場作用下將離子沉積到工件表面形成薄膜。該技術(shù)...
輝光放電與離子轟擊:在真空腔體內(nèi)充入惰性氣體(如氬氣),施加高壓電場使氣體電離,形成等離子體。等離子體中的正離子(如Ar?)在電場作用下加速轟擊靶材表面,將靶材原子或分子濺射出來。 磁場約束電子運(yùn)動(dòng):通過在靶材表面施加垂直電場的磁場,使電子在電場和磁...
航空航天領(lǐng)域: 飛行器零部件鍍膜:在航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、渦輪盤等零部件表面鍍膜,可以提高其耐高溫、抗氧化、抗腐蝕性能,延長零部件的使用壽命。例如,在發(fā)動(dòng)機(jī)葉片表面鍍上熱障涂層,可以有效降低葉片的工作溫度,提高發(fā)動(dòng)機(jī)的效率和可靠性。光學(xué)部件鍍膜:航空航天領(lǐng)...
技術(shù)突破與拓展(20 世紀(jì) 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起,真空鍍膜機(jī)迎來了重要的發(fā)展契機(jī)。1965 年,寬帶三層減反射系統(tǒng)研制成功,滿足了光學(xué)領(lǐng)域?qū)Ω咝阅鼙∧さ男枨蟆Ec此同時(shí),化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)開始應(yīng)用于硬質(zhì)合金...
蒸發(fā)鍍膜機(jī): 電阻加熱蒸發(fā)鍍膜機(jī):通過電阻加熱使靶材蒸發(fā),適用于低熔點(diǎn)材料(如鋁、銀)。 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī):利用電子束轟擊高熔點(diǎn)靶材(如鎢、氧化物),蒸發(fā)溫度可達(dá)3000℃以上,適用于高純度薄膜制備。濺射鍍膜機(jī)直流磁控濺射鍍膜機(jī):適用于金屬和合...
刀具與模具涂層: 應(yīng)用場景:各類切削刀具(銑刀、鉆頭、車刀)、沖壓模具、注塑模具等。 涂層類型:硬質(zhì)耐磨涂層:TiN(金色,硬度 HV 2000~2500)、TiCN(黑色,HV 3000~3500)、AlTiN(藍(lán)灰色,HV 3500+,耐高...
實(shí)現(xiàn)特殊功能光學(xué)性能調(diào)控:在光學(xué)領(lǐng)域,鍍膜機(jī)可以通過精確控制薄膜的厚度和折射率等參數(shù),制備出具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些光學(xué)薄膜廣泛應(yīng)用于相機(jī)鏡頭、望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、太陽能電池等領(lǐng)域,能夠提高光學(xué)元件的透光率、反射率等性能,改善成像質(zhì)...
按其他標(biāo)準(zhǔn)分類: MBE分子束外延鍍膜機(jī):是一種用于制備高質(zhì)量薄膜的先進(jìn)設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)和超導(dǎo)等領(lǐng)域。 PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī):利用高能激光束轟擊靶材,使靶材物質(zhì)以離子或原子團(tuán)的形式濺射出來,并沉積在基片上形成薄膜。 此外,...
工藝靈活性與定制化能力強(qiáng) 多材料兼容性:支持金屬(鋁、銅)、陶瓷(氮化硅、氧化鋁)、化合物(ITO、ZnO)等多種材料鍍膜,滿足不同行業(yè)需求。 膜層厚度可控:通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù)(如功率、時(shí)間、氣壓),膜層厚度精度可達(dá)±1 nm,適用于精密光學(xué)、半...
真空腔室材質(zhì):不銹鋼(耐腐蝕、易清潔),內(nèi)壁拋光以減少薄膜沉積死角。配置: 靶材組件:多個(gè)電弧靶(可旋轉(zhuǎn)或固定),靶材材質(zhì)根據(jù)膜層需求選擇(如鈦、鉻、鋯、不銹鋼等)。 工件架:可旋轉(zhuǎn)或行星運(yùn)動(dòng),確保工件表面均勻受鍍(公轉(zhuǎn) + 自轉(zhuǎn))。 進(jìn)...
提高導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性:對于一些需要良好導(dǎo)電或?qū)嵝阅艿牟牧希兡C(jī)可以在其表面鍍上金屬膜層,從而提高其導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性能。這一功能在電子器件和散熱器等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。增加美觀性:鍍膜處理還可以使產(chǎn)品表面呈現(xiàn)出金屬質(zhì)感或豐富的顏色效果,提升產(chǎn)品的觀賞性和裝飾效果。...
航空航天領(lǐng)域: 飛行器零部件鍍膜:在航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、渦輪盤等零部件表面鍍膜,可以提高其耐高溫、抗氧化、抗腐蝕性能,延長零部件的使用壽命。例如,在發(fā)動(dòng)機(jī)葉片表面鍍上熱障涂層,可以有效降低葉片的工作溫度,提高發(fā)動(dòng)機(jī)的效率和可靠性。光學(xué)部件鍍膜:航空航天領(lǐng)...
離子鍍機(jī): 原理與特點(diǎn):離子鍍機(jī)在鍍膜過程中引入離子轟擊,通過高能粒子碰撞改善膜層性能。該技術(shù)膜層附著力極強(qiáng),可制備超硬、耐磨涂層,繞鍍性能優(yōu)異。 優(yōu)勢:適用于航空航天部件防護(hù)涂層(如DLC、TiAlN)、汽車活塞環(huán)耐磨鍍層等。可實(shí)現(xiàn)多種材料的...
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會(huì)沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
真空度:高真空度是獲得高質(zhì)量膜層的關(guān)鍵。蒸發(fā)鍍膜一般需達(dá)到 10?3 - 10??Pa,濺射鍍膜通常需 10?? - 10??Pa。鍍膜速率:在滿足鍍膜質(zhì)量的前提下,鍍膜速率越高,生產(chǎn)效率越高。不同鍍膜方法和材料的鍍膜速率不同,如蒸發(fā)鍍膜的金屬鍍膜速率一般為 ...
光電行業(yè)應(yīng)用:光學(xué)鍍膜,如透明導(dǎo)電膜、防反射膜、反射膜、偏振膜等,用于生產(chǎn)太陽能電池板、液晶顯示器、LED燈等光電產(chǎn)品。集成電路制造應(yīng)用:沉積各種金屬薄膜,如鋁、銅等作為導(dǎo)電層和互連材料,確保電路的導(dǎo)電性和信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。平板顯示器制造應(yīng)用:制備電極、透明導(dǎo)...
精確控制膜層:現(xiàn)代鍍膜機(jī)配備了先進(jìn)的控制系統(tǒng),可以精確控制鍍膜的厚度、成分、均勻性等參數(shù),確保每一批產(chǎn)品的鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定一致。以半導(dǎo)體芯片制造為例,需要精確控制鍍膜厚度在納米級(jí)別,鍍膜機(jī)能夠滿足這種高精度的要求,保證芯片的性能和可靠性。適應(yīng)多種材料:鍍膜機(jī)可以在...
鍍膜機(jī)的組件: 真空系統(tǒng)提供高真空環(huán)境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發(fā)源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學(xué)前驅(qū)體供應(yīng)裝置等。基材夾具固定和旋轉(zhuǎn)基材,確保薄膜均勻性。控制系統(tǒng)監(jiān)控和調(diào)節(jié)真空度、溫度、沉積速率等...
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備:原理:利用電子束直接加熱靶材,使其蒸發(fā)并沉積在基片上。應(yīng)用:主要用于鍍制多層精密光學(xué)膜,如AR膜、長波通、短波通等,廣泛應(yīng)用于玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學(xué)鏡頭等產(chǎn)品。離子鍍真空鍍膜設(shè)備:原理:通過離子轟擊靶材或基片,促進(jìn)靶材物質(zhì)的濺射和基...
電子行業(yè)半導(dǎo)體器件制造案例:英特爾、臺(tái)積電等半導(dǎo)體制造企業(yè)在芯片制造過程中大量使用真空鍍膜設(shè)備。在芯片的電極形成過程中,通過 PVD 的濺射鍍膜技術(shù),以銅(Cu)或鋁(Al)為靶材,在硅片(Si)基底上濺射沉積金屬薄膜作為電極。同時(shí),利用 CVD 技術(shù),如等離...
適用基體多樣金屬基體:各種金屬制品,如汽車零部件、五金工具、電子產(chǎn)品外殼等,都可以通過真空鍍膜來提高其表面性能和裝飾效果。例如汽車輪轂通過真空鍍膜可以獲得美觀的外觀和良好的耐腐蝕性。 塑料基體:對于塑料材質(zhì)的產(chǎn)品,如手機(jī)外殼、家電面板等,真空鍍膜可以...
膜層性能優(yōu)異光學(xué)性能好:通過真空鍍膜技術(shù)可以精確控制膜層的厚度和折射率,從而獲得具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。例如,在相機(jī)鏡頭上鍍上多層增透膜,可以提高鏡頭的透光率,減少光線反射,從而提...
膜層性能優(yōu)異光學(xué)性能好:通過真空鍍膜技術(shù)可以精確控制膜層的厚度和折射率,從而獲得具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。例如,在相機(jī)鏡頭上鍍上多層增透膜,可以提高鏡頭的透光率,減少光線反射,從而提...
精確的厚度控制:真空鍍膜設(shè)備可以通過精確控制鍍膜時(shí)間、蒸發(fā)速率、氣體流量等參數(shù),實(shí)現(xiàn)對膜層厚度的精確控制,能夠滿足不同應(yīng)用場景對膜層厚度的嚴(yán)格要求。比如在電子芯片制造中,需要在芯片表面鍍上厚度精確的金屬膜或介質(zhì)膜來實(shí)現(xiàn)特定的電學(xué)性能,真空鍍膜設(shè)備可以將膜層厚度...
工具與機(jī)械行業(yè) 切削工具涂層 應(yīng)用場景:鉆頭、銑刀的TiN、TiAlN硬質(zhì)涂層。 技術(shù)需求:高硬度、低摩擦的薄膜,需多弧離子鍍或磁控濺射。 模具與零部件 應(yīng)用場景:注塑模具的DLC(類金剛石)涂層、汽車零部件的耐磨涂層。 ...
五金裝飾行業(yè): 五金件表面鍍膜案例:在五金裝飾領(lǐng)域,真空鍍膜設(shè)備用于對各種五金制品進(jìn)行裝飾和防護(hù)鍍膜。例如,對門把手、水龍頭等進(jìn)行鍍膜。通過 PVD 的蒸發(fā)鍍膜或?yàn)R射鍍膜技術(shù),在五金件表面鍍上各種顏色的金屬膜或陶瓷膜。如鍍氮化鈦(TiN)可以得到金黃...
工件準(zhǔn)備待鍍工件的表面狀態(tài)直接影響鍍膜質(zhì)量。在鍍膜前,需對待鍍工件進(jìn)行嚴(yán)格的清洗和脫脂處理,去除表面的油污、灰塵和氧化物等雜質(zhì)。可以采用化學(xué)清洗、超聲波清洗等方法,確保工件表面干凈。對于形狀復(fù)雜的工件,要特別注意清洗死角,保證每個(gè)部位都能得到充分清洗。清洗后的...
真空鍍膜機(jī)的操作與維護(hù)真空鍍膜機(jī)的操作需要嚴(yán)格按照設(shè)備說明書進(jìn)行,以確保鍍膜質(zhì)量和設(shè)備安全。一般來說,操作過程包括設(shè)備檢查、送電、抽真空、鍍膜及冷卻等步驟。同時(shí),設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)也至關(guān)重要,這不僅可以延長設(shè)備的使用壽命,還可以確保鍍膜質(zhì)量的穩(wěn)定性。 定...
鍍膜材料的汽化或離化: 根據(jù)鍍膜工藝的不同,主要有以下兩種方式使鍍膜材料轉(zhuǎn)化為可沉積的粒子: 蒸發(fā)鍍膜(物理的氣相沉積 PVD 的一種)原理:通過加熱鍍膜材料(如金屬、合金、氧化物等),使其從固態(tài)直接汽化或升華為氣態(tài)原子 / 分子。 加熱...