半導體器件薄膜涂層黃金靶材特點
自旋電鍍膜黃金靶材的工作原理主要涉及物相沉積（PVD）技術中的濺射鍍膜過程，具體可以歸納如下：濺射過程：在濺射鍍膜中，通過電場或磁場加速的能離子（如氬離子）轟擊黃金靶材的表面。這種轟擊導致靶材表面的原子或分子被擊出，形成濺射原子流。原子沉積：被擊出的濺射原子（即黃金原子）在真空中飛行，并終沉積在旋轉的基底材料上。基底的旋轉有助于確保薄膜的均勻性。自旋作用：基底的自旋運動是關鍵因素之一，它不僅促進了濺射原子的均勻分布，還有助于減少薄膜中的缺陷和應力。薄膜形成：隨著濺射過程的持續進行，黃金原子在基底上逐漸積累，形成一層或多層薄膜。這層薄膜具有特定的物理和化學性質，如導電性、光學性能等。工藝控制：在...
