本發明屬于光電催化技術領域，具體涉及一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，可以實現znte光生載流子的定向分離，并加速界面co2還原反應的活性。背景技術：能源危機和溫室效應是人類目前急需解決的關鍵科學難題，以太陽能驅動的co2還原為解決這些問題提供了一個理想的途徑，該反應綠色、**，條件溫和，吸引了多國和科研人員的目光。光電催化反應技術整合光催化和電催化技術的優勢,從而實現對co2還原更高的效率和更理想的選擇性。目前，光電催化co2還原的效率依然很低，太陽能到化學能的轉化效率遠低于工業應用所需的10％效率，根本原因在于載流子復合嚴重，界面反應動力學緩慢。為了推進光電催化co2還原技術的實際應用，關鍵是開發**載流子分離的光陰極材料。znte是一種可見光響應的p型半導體()，其導帶邊電勢()遠負于其它半導體，能克服co2還原的熱力學勢壘，是目前光(電)催化co2還原的理想材料。但是，單一znte光電極材料依然無法**分離光生載流子，大部分載流子在界面反應發生之前復合損失。構建半導體納米異質結是分離光生載流子的通用途徑，但該方法往往需要兩個半導體之間的能帶匹配，且兩相界面需有利于載流子傳輸。這樣，很大地限制了半導體材料的選擇。因此。硅光電二極管陣列 選擇世華高。中山硅光硅光電二極管廠家

深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展，世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。孔直徑為25um，孔間距35um；也可以為同心環結構，該同心環中心與金屬電極106中心重合，個環直徑與金屬電極106直徑相同，相鄰環間距10um，環中心距35um；正面金屬電極106下方的高反層需要刻蝕掉，以增大同流能力，降低擴散電阻，提高響應速度。進一步的，參見圖5-1～圖5-7。本發明還提出一種高速高響應度的硅基光電二極管的制備方法，包括以下操作：1)在襯底107上濺射生成高反層109；2)高反層109開設刻蝕孔；3)高反層109上通過淀積的方法生長外延層101；4)在外延層101上通過離子注入分別形成保護環102和有源區103；5)在保護環102和有源區103上生成sio2層104，然后在sio2層上方生成si3n4層105。中山硅光硅光電二極管廠家世華高硅光電二極管帶你體驗智能系統。

具體實施方式下面結合實施例對本發明做進一步詳細描述，所述是對本發明的解釋而不是限定，一種高速高響應度的硅基光電二極管，包括背面設有背面電極108的襯底107；襯底107正面依次設有高反層(109、外延層101、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極106；所述的高反層109上開設有用于形成電流路徑的刻蝕孔，以及與正面金屬電極106相對應的刻蝕區；所述的注入層包括保護環102以及設在其內的有源區103；所述的正面金屬電極106還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區103相連接。進一步的，所述的襯底107為電阻率20～100為ohm·cm的硅基襯底，襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極108。所述的外延層101淀積在高反層109上；在外延層101上分別以n型離子注入形成保護環102，以p型離子注入形成有源區103；所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層104，所述的氮化硅層為淀積生長的si3n4層105；所述的正面金屬電極106是在濺射后經刻蝕成形。參見圖2所示的光電二極管等效電路示意圖，rsh為光電二極管關斷阻抗，rsh＝∞，rs為光電二極管串聯電阻。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。

水熱時間為2-12h。地，步驟3所述氮氣保護條件下的煅燒溫度為200-400℃，煅燒時間為1-6h。本發明的有益效果：本發明創造性地利用靜電紡絲技術制備了sr摻雜batio3納米纖維電極，該方法制備過程簡單，便于規模化生產。且所制備的sr摻雜batio3鐵電材料自發極化能力強，在外場環境下產生較強的表面電場，能夠有效的分離znte電極的光生載流子，極大地提高了znte載流子的分離效率，降低了光生載流子的復合速度，從而為**co2還原反應奠定了堅實的基礎。附圖說明圖1為實施例一中制備的sr摻雜batio3納米纖維的掃描電鏡圖。圖2為實施例一中制備的sr摻雜batio3/znte電極的掃描電鏡圖；圖3為實施例二中制備的sr摻雜batio3和sr摻雜batio3/znte電極的線性掃描伏安曲線圖；圖4為實施例三中制備的sr摻雜batio3和sr摻雜batio3/znte電極在。具體實施方式為了更好的理解本發明，下面結合實施例和附圖進一步闡明本發明的內容，但本發明的內容不局限于下面的實施例。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。專業硅光電二極管生產廠家就找深圳世華高。

結構簡單易于實現，不改變原有設備的主要結構，只增加少量部件和對控制程序的改造，改造費用增加很少，以很少的設備投資，既減少了產品生產過程中氮氣使用成本，又提高了系統的可靠性；本真空焊接系統通過電磁鐵和磁環進行磁性連接，可有效提升石英玻璃罩與下固定板之間的密封性能，以保證生產產品的品質，從而提高真空焊接系統的實用性。附圖說明圖1為本實用新型正面結構示意圖。圖2為本實用新型下固定板的結構示意圖。圖3為本實用新型模塊圖。圖中：1、石英玻璃罩；2、上密封圈；3、上固定板；4、plc控制器；5、下密封圈；6、電磁鐵；7、下固定板；8、耐高溫傳輸管道；9、真空電磁閥；10、微型真空泵；11、氮氣電磁閥；12、氮氣充氣泵；13、溫度檢測儀；14、熔深檢測儀；15、卡槽；16、感應線圈；17、磁環。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-3。硅光電二極管電路圖就找世華高！重慶硅光電硅光電二極管電池

硅光二極管哪家棒！世華高。中山硅光硅光電二極管廠家

硅光二極管的響應時間也是其性能的重要指標之一。在高速光通信系統中，需要選擇具有快速響應時間的硅光二極管，以確保信號的準確傳輸和處理。隨著技術的不斷進步，硅光二極管的響應時間已經越來越短，為高速光通信技術的發展提供了有力保障。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。隨著生產規模的不斷擴大和產品種類的豐富，公司的銷售業績穩步提升。中山硅光硅光電二極管廠家