離子氮化注意事項(xiàng)：裝爐清洗工件同氣體氮化，但比較好擦干或涼干再裝入爐內(nèi)，以節(jié)省打弧時(shí)間。工件應(yīng)均勻裝入爐內(nèi)，工件之間，陰陽極之間必須間隔30mm以上，以免工件之間，兩極之間電流密度過大而致工件局部溫度過高。做好防滲，凡小于2mm的孔，縫隙必須屏蔽，試樣放置在能與工件溫度保持一致的位置上。在離子氮化中經(jīng)常發(fā)生兩種異常輝光發(fā)射，有場致發(fā)射和電子發(fā)射，場致發(fā)射即為工件或氣隙存在小孔或小縫隙，或因油質(zhì)溶化引起輝光集中，導(dǎo)致電流加大產(chǎn)生定點(diǎn)弧光，生成類似于電焊的效果，使工作無法進(jìn)行。電子發(fā)射即為工件存在尖角或工件擺放不當(dāng)，如兩件之間、陰陽極之間等距離太近，這些地方電流密度較大，當(dāng)工作時(shí)如所給電流太大，則這些位置溫度迅速升高，電流密集于此處，也產(chǎn)生定點(diǎn)弧光，使工作無法進(jìn)行。 離子氮化件常見缺陷與對策。揭陽高頻離子氮化電源

    離子氮化，它早在1931年就已在實(shí)驗(yàn)室里取得成功并獲。其所運(yùn)用的輝光放電，是氣體放電的一種重要形式。低氣壓輝光放電的擊穿機(jī)制是，從陰極發(fā)射電子，在放電空間引形成相應(yīng)離子，由此產(chǎn)生的正離子再轟擊陰極使其發(fā)射出更多的電子。按其狀態(tài)，輝光放電又可分為前期輝光、正常輝光和異常輝光三個(gè)不同階段。而大電流的穩(wěn)定輝光放電設(shè)備在制造技術(shù)在當(dāng)時(shí)有較大的困難；一直延遲到20世紀(jì)60年代初，人們在掌握輝光放電技術(shù)后，離子氮化才在少數(shù)國家生產(chǎn)中得到應(yīng)用。目前世界各國包括我國在內(nèi)，離子氮化生產(chǎn)已獲得迅猛發(fā)展。離子滲氮作為強(qiáng)化金屬表面的一種利用輝光放電現(xiàn)象，將含氮?dú)怏w電離后產(chǎn)生的氮離子轟擊零件表面加熱并進(jìn)行氮化，獲得表面滲氮層的離子化學(xué)熱處理工藝，適用于鑄鐵、碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等。零件經(jīng)離子滲氮處理后，可顯著提高材料表面的硬度，使其具有高的耐磨性、疲勞強(qiáng)度，抗蝕能力及抗燒傷性等。 潮州真空離子氮化工藝流程離子氮化和氣體氮化區(qū)別。

隨著離子滲氮技術(shù)的發(fā)展形成了離子滲氮產(chǎn)業(yè)，總的評價(jià)我國現(xiàn)在離子滲氮產(chǎn)業(yè)的工業(yè)化水平，已能滿足工業(yè)產(chǎn)品的一般要求，但是離子滲氮 質(zhì)量產(chǎn)品的批量生產(chǎn)，從技術(shù)和裝備上都還不適應(yīng)產(chǎn)業(yè)化規(guī)模要求。因此，現(xiàn)在處于離子滲氮產(chǎn)業(yè)平穩(wěn)發(fā)展的關(guān)鍵時(shí)期，必須充分發(fā)揮離子滲氮自身獨(dú)有的優(yōu)勢，弱化短處，在滲氮表面強(qiáng)化技術(shù)和工藝上形成一整套獨(dú)特的方案，開發(fā)出特種離子滲氮設(shè)備。工業(yè)應(yīng)用應(yīng)從“遍地開花”到重點(diǎn)突破，尤其向 產(chǎn)品方向突破。

離子滲氮法是在0.1～10Torr（1Torr=133.3Pa）的含氮?dú)夥罩校誀t體為陽極，被處理工件為陰極，在陰陽極間加上數(shù)百伏的直流電壓，由于輝光放電現(xiàn)象便會產(chǎn)生像霓虹燈一樣的柔光覆蓋在被處理工件的表面。此時(shí)，已離子化了的氣體成分被電場加速，撞擊被處理工件表面而使其加熱，同時(shí)依靠濺射及離子化作用等進(jìn)行氮化處理。作為一種全新的氮化方法，現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于汽車、機(jī)床、航天、塑料機(jī)械、紡織機(jī)械、精密儀器、模具、量韌具等許多領(lǐng)域，而且其應(yīng)用范圍仍在日益擴(kuò)大。目前，我國在離子氮化的某些理論和技術(shù)方面已處于比較靠前的的水平。離子氮化是怎樣進(jìn)行的？

   離子氮化的常見缺陷:硬度偏低生產(chǎn)實(shí)踐中，工件氮化后其表面硬度有時(shí)達(dá)不到工藝規(guī)定的要求，輕者可以返工，重者則造成報(bào)廢。造成硬度偏低的原因是多方面的:有設(shè)備方面的原因，如系統(tǒng)漏氣造成氧化;有選材方面的原因，如材料選擇不恰當(dāng);有前期熱處理方面的原因，如基本硬度太低，表面脫碳等;有工藝方面的原因，如氮化溫度過高或過低，時(shí)間短或氮?jiǎng)莶蛔愣斐蓾B層太薄筆筆。只有根據(jù)具體情況，找準(zhǔn)原因，問題才會得以解決。硬度和滲層不均勻裝爐方式不當(dāng)，氣壓調(diào)節(jié)不當(dāng)(如供氣量過大)，溫度不均，小孔、窄縫未屏蔽造成局面過熱等均會造成硬度和滲層不均勻。變形超差變形是難以杜絕的，對易變形件，采取以下措施，有利干減小變形。氧化前應(yīng)進(jìn)行穩(wěn)定化處理(處理次數(shù)可以是幾次)直至將氮化前的變形量控制在很小的范圍內(nèi)(一般不應(yīng)超過氮化后允許變形量的50%);氧化過程中的升、降溫速度應(yīng)緩慢;保溫階段盡量使工件各處的溫度均勻一致。對變形要求嚴(yán)格的工件，如果工藝許可，盡可能采用較低的氫化溫度。鋼材熱處理：離子氮化、液體氮化、氣體氮化的作用及技術(shù)流程。廣東模具鋼離子氮化電源

離子氮化的操作說明。揭陽高頻離子氮化電源

離子氮化處理后的錐環(huán)支板金相檢測結(jié)果如圖3所示。其氮化層是由表面白亮層和擴(kuò)散層組成，圖3a所示為低倍下表面白亮層和擴(kuò)散層的金相照片，可以看出表面白亮層的厚度是比較均勻的。測得硬化層的層深為0.28mm，白亮層深度為8μm，表面硬化層的硬度為530～540HV。其中表面氮化層的金相組織如圖3b所示，其組織由含氮的板條馬氏體+屈氏體團(tuán)+回火索氏體+少量鐵素體組成。采用 量具測得內(nèi)齒的圓度變形為0.05～0.07mm，支板平面變形度均值為0.07mm，滿足變形技術(shù)要求。綜上述分析，改善后的離子氮化工藝獲得了質(zhì)量合格的錐環(huán)支板。揭陽高頻離子氮化電源

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