光刻主要有以下幾個步驟。 首先是準備基質:在涂布光阻劑之前,硅片一般要進行處理,需要經過脫水烘培蒸發(fā)掉硅片表面的水分,并涂上用來增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物。 涂布光阻劑(photo resist):將硅片放在一個平整的金屬托盤上,托盤內有小孔與真空管相連,硅片就被吸在托盤上,這樣硅片就可以與托盤一起旋轉。 軟烘干:也稱前烘。過在較高溫度下進行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發(fā)出來。 光刻:光刻過程中,光刻膠中的感光劑發(fā)生光化學反應,從而使正膠的感光區(qū)、負膠的非感光區(qū)能夠溶解于顯影液中。 顯影(development) :經顯影,正膠的感光區(qū)、負膠的非感光區(qū)溶解于顯影液中, 硬烘干:也稱堅膜。顯影后,硅片還要經過一個高溫處理過程,主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強光刻膠對硅片表面的附著力,同時提高光刻膠在刻蝕和離子注入過程中的抗蝕性和保護能力。 去膠:刻蝕或離子注入之后,已經不再需要光刻膠作保護層,可以將其除去,稱為去膠,分為濕法去膠和干法去膠。 在硅芯片上涂光阻劑的甩膠機此外光阻劑還有“正”、“負”之分,正光阻劑不感光的部分在顯影后留下,而負光阻劑感光的部分在顯影后留下。顯影后光阻劑被烘干,然后芯片被放入廣東光刻來電咨詢
準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術,主要包括:特征尺寸為0.1μm的248 nm KrF準分子激光技術;特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術;特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(Immersion,193i)。其中193 nm浸沒式光刻技術是所有光刻技術中**為長壽且**富有競爭力的,也是如何進一步發(fā)揮其潛力的研究熱點。傳統(tǒng)光刻技術光刻膠與曝光鏡頭之間的介質是空氣,而浸沒 式技術則是將空氣 換成液體介質。實際上,由于液體介質的折射率相比空氣介質更接近曝光透鏡鏡片材料的折射率,等效地加大了透鏡口徑尺寸與數(shù)值孔徑(NA),同時可以 ***提高焦深(DOF)和曝光工藝的寬容度(EL),浸沒式光 刻 技 術 正 是 利 用 這 個 原 理 來 提 高 其 分 辨率。廣東光刻質量放心可靠
EUV技術慢慢開始替代了一部分的浸沒式光刻,EUV技術以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。EUV光刻所能提供的高分辨率已經被實驗所證實。光刻機供應商已經分別實現(xiàn)了20nm和14nm節(jié)點的SRAM的曝光,并與193i曝光的結果做了對比。顯然,即使是使用研發(fā)機臺,EUV曝光的分辨率也遠好于193i。14nm節(jié)點圖形的曝光聚焦深度能到達250nm以上。
常規(guī)光刻技術是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。 ①光復印工藝:經曝光系統(tǒng)將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置,精確傳遞到預涂在晶片表面或介質層上的光致抗蝕劑薄層上。 ②刻蝕工藝:利用化學或物理方法,將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質層除去,從而在晶片表面或介質層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的,因而光刻工藝總是多次反復進行。
光刻技術是指在光照作用下,借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。其主要過程為:首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面,引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學反應;再通過顯影技術溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠(前者稱正性光刻膠,后者稱負性光刻膠),使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上;***利用刻蝕技術將圖形轉移到基片上。 在廣義上,它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。 專業(yè)光刻報價
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光刻技術是指在光照作用下,借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術。 隨著半導體技術的發(fā)展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學技術發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術;使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。廣東光刻來電咨詢
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