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北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

來源: 發布時間:2022-08-30

    Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

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光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰性,需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現。湖南高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統更多灰度光刻技術,歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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    基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何,在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”。

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解目前灰度光刻的發展。

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Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統Quantum X產品系列的第二臺設備,可實現在25 cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術的區別。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

目前,PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等產品的產量居世界前列,實驗分析儀器等中產品的市場占比不斷上升,行業技術上總體已達到的中等國際水平,少數產品接近或達到當前較高國際水平。由于在重大工程、工業裝備和質量保證、基礎科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎技術和裝備重點,除傳統領域的需求外,新興的智能制造、離散自動化、生命科學、新能源、海洋工程、軌道交通等領域也會產生巨大需求。盡管在我國相關政策的引導和支持下,我國儀器儀表行業得到了飛速發展。但是從貿易整體上看,我國的儀器儀表行業還是落后于國際水平的。重點技術缺乏、高精尖產品嚴重依賴進口、儀器儀表產品同質化嚴重、生產工藝落后、研發能力弱、精度不高等問題凸顯,為儀器儀表行業的發展帶來了嚴峻的挑戰。儀器儀表是用以檢測、測量、觀察、計算各種物理量、物質成分、物性參數等的器具或設備。真空檢漏儀、壓力表、測長儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,得益于機械、冶金、石化行業等儀器儀表服務領域經營狀況的好轉,我國儀器儀表制造業發展一路向好。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

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