Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。使用Nanoscribe的3D微加工技術并配合其新型研發的IP-Visio光刻膠，可以打印極其復雜的3D微支架。重慶工業級Nanoscribe技術

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數據通訊，激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰性，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。浙江Nanoscribe系統Nanoscribe的3D打印設備具有高設計自由度和高精度的特點。

3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。

**是全世界一個主要死亡原因，2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**，其*細胞增殖非常快且具有**性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞，研究人員正在研究使用質子放射***，該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創的技術。然而，質子放射***的成本很高，這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴，幾乎無法進行。質子放射***的高成本也導致缺乏從細胞水平了解質子對膠質母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應提供了一個平臺。然而，由于無法模擬體內自然發生的3D環境，傳統2D單層細胞培養存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環境，代爾夫特理工大學（DelftUniversityofTechnology）的科學家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統制作了3D工程細胞微環境，并且***次在質子束放射實驗中研究了所培養的膠質母細胞瘤細胞3D打印支架，以探究其對輻射的反應。令人印象深刻的是，該實驗結果顯示，與2D單層細胞相比，3D工程細胞培養中的DNA損傷得到了***降低。使用Nanoscribe技術可以制造微米級別的結構和器件。

德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技（上海）有限公司，加強了德國高新技術在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家，超過1500名用戶。大學中已經多所正在使用Nanoscribe3D打印機。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院等等。在科研領域，Nanoscribe的系列3D打印設備幫助推動著諸如超材料，微納機器人，再生醫學工程，微納光學，微流道，微機電系統等等領域的研究和發展。微米級分辨率，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。浙江科研Nanoscribe多少錢

Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術的發展，為客戶提供高質量、高效率的解決方案。重慶工業級Nanoscribe技術

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。重慶工業級Nanoscribe技術