Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。增材制造技術通過3D打印將數字設計轉化為現實物體。北京微流道增材制造Photonic Professional GT

   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。廣東TPP增材制造無掩膜激光直寫更多增材制造的信息，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高增材制造技術正在推動制造業的數字化轉型和創新。

雖然半導體行業一直在使用3D打印技術，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內幕，因為他們想確保的競爭優勢。至少，對外界揭示其優化設備性能的技術，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結構一體化實現，根據3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統能夠更接近理論上預期的工作環境，而不是在機器操作上做出妥協。增材制造有助于提高制造效率和降低成本。上海高精度增材制造激光直寫

增材制造在生活中應用。北京微流道增材制造Photonic Professional GT

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。北京微流道增材制造Photonic Professional GT