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黑龍江Nanoscribe灰度光刻微納加工系統

來源: 發布時間:2024-04-06

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。灰度光刻技術可以相當于二元套刻的多次曝光,提高了光刻效率。黑龍江Nanoscribe灰度光刻微納加工系統

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Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。廣東Nanoscribe灰度光刻無掩光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術的區別。

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   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點

這款灰度光刻設備還具備智能化的特點。它配備了先進的自動化控制系統,可以實現自動調節和監控,減少了人工操作的需求,提高了生產線的穩定性和可靠性。同時,設備還具備故障自診斷和遠程監控功能,及時發現和解決問題,減少了生產線的停機時間,提高了生產效率。這款設備還具備良好的適應性和可擴展性。它可以適應不同材料和工藝的加工需求,為我們的生產線提供了更大的靈活性。同時,設備還支持模塊化設計,可以根據需要進行擴展和升級,滿足我們未來的生產需求。這款全新的灰度光刻設備為我們的生產線帶來了巨大的改變。它的精度、穩定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求,提高產品質量和生產效率。我們相信,有了這款設備的加入,我們的公司將迎來更加美好的未來。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。

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Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。了解更多關于灰度光刻技術各種應用,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。德國進口灰度光刻微納加工系統

灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造。黑龍江Nanoscribe灰度光刻微納加工系統

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透,而某些區域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態黑龍江Nanoscribe灰度光刻微納加工系統

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