Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求德國Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統- Photonic Professional GT2 (PPGT2)。四川高精度NanoscribeQX

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造公司，一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。

重慶超高速Nanoscribe無掩膜光刻研究人員利用Nanoscribe公司的3D光刻技術將光學引線鍵合到芯片上，有效地將各種光子集成平臺連接起來。

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。   

IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。 更多有關3D微納加工的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司。

Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域，它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域，它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域，它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域，Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外，Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots，用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域，以及制作極小的手術工具，用于顯微外科手術。

3D自由曲面耦合器利用全內反射，結合Nanoscribe的3D微加工技術可直接在光子芯片上進行3D打印制作。浙江Nanoscribe上海

Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀。四川高精度NanoscribeQX

Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準，例如作為光子封裝的光學互連，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業中，打印系統會檢測標記并將其與打印作業進行匹配，以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗，通過自由空間微光學耦合（FSMOC）實現高效的光耦合，成為光子封裝的強大解決方案。四川高精度NanoscribeQX