來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟灰度光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心，共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。湖北德國灰度光刻設備

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司，開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創始人開發出一種技術，對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學，甚至利用他們的技術來開發創新的設備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度非常高。北京雙光子灰度光刻3D光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術。

Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項**技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。灰度光刻技術具有很高的靈活性，可以通過控制光的幅度和相位。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作。北京雙光子灰度光刻3D光刻

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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。湖北德國灰度光刻設備