3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人等等。廣東微納米NanoscribeQuantum X shape

文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。海南雙光子聚合NanoscribeQuantum X shape科學家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設備制造了復雜的微孔膜結構。

**是全世界一個主要死亡原因，2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**，其*細胞增殖非常快且具有**性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞，研究人員正在研究使用質子放射***，該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創的技術。然而，質子放射***的成本很高，這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴，幾乎無法進行。質子放射***的高成本也導致缺乏從細胞水平了解質子對膠質母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應提供了一個平臺。然而，由于無法模擬體內自然發生的3D環境，傳統2D單層細胞培養存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環境，代爾夫特理工大學（DelftUniversityofTechnology）的科學家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統制作了3D工程細胞微環境，并且***次在質子束放射實驗中研究了所培養的膠質母細胞瘤細胞3D打印支架，以探究其對輻射的反應。令人印象深刻的是，該實驗結果顯示，與2D單層細胞相比，3D工程細胞培養中的DNA損傷得到了***降低。

Nanoscribe雙光子灰度光刻（2GL®）是一種用于生成2.5D拓撲的新型增材制造技術。通過這種技術，在掃描一層的情況下，可以打印離散和準確的步驟以及基本連續的拓撲，從而縮短了打印時間。2GL是無掩膜灰度光刻技術家族的新成員，其使用功率調節激光來塑造微納米結構功能器件的高度輪廓。雙光子灰度光刻（2GL®）是一項突破性的創新技術，將灰度光刻的優勢與雙光子聚合（2PP）的精度和靈活性相結合。光學元件如何對準并打印到光子芯片上？打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件，智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征，以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口，使其光軸和方向完美對準。 根據該坐標系打印的光學元件可確保比較好的光學質量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現高效的光耦合。快速原型制作，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維邀您一起探討增材制造的現狀和未來。廣東微納米NanoscribeQuantum X shape

Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。廣東微納米NanoscribeQuantum X shape

   全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優勢Nanoscribe新發布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創新獎。

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