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廣東雙光子無掩膜光刻微納光刻

來源: 發布時間:2022-01-06

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術的打印機競爭,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案;LithoProf3D,一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機,以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一,QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”,可實現高精度增材制造,在其中可以比較好平衡精度和速度,以實現特別高水平的生產力和質量。Nanoscribe認為該打印機能夠產生“非常出色的輸出”,該打印機依賴于基于移動鏡技術的振鏡(Galvo)系統和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統控制單元,并結合了行業-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,并且對第三方或定制材料開放。此外,它可以通過設備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制,允許遠程控制連接打印機的打印作業,將實驗室的準備時間減少到限度低值,并在共享系統時簡化團隊協作。雙光子無掩模光刻系統Quantum X作為硬件載體框架,計劃建立一個先進的平臺,成為下一代光子封裝技術的榜樣。廣東雙光子無掩膜光刻微納光刻

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度。海南雙光子聚合無掩膜光刻PPGT無掩膜光刻系統未來發展前景如何,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心,共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(IMSAS)研究所的科學家們發明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統,利用雙光子聚合原理(2PP)結合光刻技術,將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品,適用于藥物和納米顆粒制造,快速化學反應、生物學測量和分析藥物等各種不同應用。

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創新設計。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術,即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術。海南雙光子聚合無掩膜光刻PPGT

無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利,很大程度提高了無掩膜影印和新產品研發的效率。廣東雙光子無掩膜光刻微納光刻

儀器儀表是用以檢出、測量、觀察、計算各種物理量、物質成分、物性參數等的器具或設備。真空檢漏儀、壓力表、測長儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,得益于機械、冶金、石化行業等儀器儀表服務領域經營狀況的好轉,我國儀器儀表制造業發展一路向好。中國的新型工業化進程,信息化和工業化融合的進一步加深,帶動各個工業領域對于PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等產品的需求。中國儀器儀表行業目前正處于高速發展階段,需要與之相適應的作為Nanoscribe在中國全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發,技術轉讓,技術咨詢,技術服務,三維打印設備,光電機一體化設備和相關零配件的批發,進出口,傭金代理,并提供相關配套服務,貿易信息咨詢,企業管理咨詢。產品營銷模式相互配合。盡管在我國相關政策的引導和支持下,我國儀器儀表行業得到了飛速發展。但是從貿易整體上看,我國的儀器儀表行業還是落后于國際水平的。重點技術缺乏、高精尖產品嚴重依賴進口、儀器儀表產品同質化嚴重、生產工藝落后、研發能力弱、精度不高等問題的凸顯,為儀器儀表行業的發展帶來了嚴峻的挑戰。廣東雙光子無掩膜光刻微納光刻

納糯三維科技(上海)有限公司主要經營范圍是儀器儀表,擁有一支專業技術團隊和良好的市場口碑。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統,一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司將不斷增強企業重點競爭力,努力學習行業知識,遵守行業規范,植根于儀器儀表行業的發展。納糯三維立足于全國市場,依托強大的研發實力,融合前沿的技術理念,飛快響應客戶的變化需求。

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