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Nanoscribe無掩膜光刻技術

來源: 發布時間:2022-01-09

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環境進行生物打印,適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產品線開發,用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與Nanoscribe公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯手的協作效應,可以實現更逼真的組織結構,例如血管化和細胞支持體等。2PP技術將實現CELLINK集團所有三個業務的跨領域應用,并增強集團的耗材產品開發和供應。“借助Nanoscribe特別先進的2PP技術,我們可以實現擴大補充我們的產品組合,為我們的客戶提供更加廣的產品。”CELLINK首席執行官ErikGatenholm強調說,“為了改善全球人民的健康狀況,我們正在以此為目標導向,不斷強大公司擴大規模,持續開發研究開創性生物融合技術?!毕胍私鉄o掩膜光刻的特點和用途,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。Nanoscribe無掩膜光刻技術

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光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰性,需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現。Nanoscribe無掩膜光刻無掩光刻了解更多無掩膜光刻的技術和產品信息,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。了解更多無掩膜光刻的技術和產品信息,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規?;a。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。想要了解無掩膜光刻的技術內容,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京微納米無掩膜光刻工藝

Photonic Professional GT在微納米3D打印,以及無掩模光刻領域樹立了行業內新的標竿。Nanoscribe無掩膜光刻技術

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量??偠灾?,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調制速率動態調整激光功率。Nanoscribe無掩膜光刻技術

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家生產型的公司。公司業務涵蓋PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等,價格合理,品質有保證。公司將不斷增強企業重點競爭力,努力學習行業知識,遵守行業規范,植根于儀器儀表行業的發展。納糯三維秉承“客戶為尊、服務為榮、創意為先、技術為實”的經營理念,全力打造公司的重點競爭力。

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