發(fā)光二極管（LED）將電能直接轉(zhuǎn)化為光能，顛覆了傳統(tǒng)照明模式。早期 GaAsP 紅光 LED（光效 1lm/W）用于儀器指示燈，而氮化鎵藍(lán)光 LED（20lm/W）的誕生，配合熒光粉實(shí)現(xiàn)白光照明（光效＞100lm/W），能耗為白熾燈的 1/10。Micro-LED 技術(shù)將二極管尺寸縮小至 10μm，在 VR 頭顯中實(shí)現(xiàn) 5000PPI 像素密度，亮度達(dá) 3000nit，同時(shí)功耗降低 70%。UV-C LED（275nm）在期間展現(xiàn)消殺能力，99.9% 病毒滅活率使其成為電梯按鍵、醫(yī)療設(shè)備的標(biāo)配。LED 從單一指示燈發(fā)展為智能光源，重塑了顯示與照明的技術(shù)格局。快恢復(fù)二極管擁有極短的反向恢復(fù)時(shí)間，在高頻電路里快速切換，讓電流傳輸高效又穩(wěn)定。番禺區(qū)工業(yè)二極管市場(chǎng)價(jià)格

1904 年，英國(guó)物理學(xué)家弗萊明為解決馬可尼無(wú)線電報(bào)的信號(hào)穩(wěn)定性問(wèn)題，發(fā)明首只電子二極管 “熱離子閥”。這一玻璃真空管內(nèi)，加熱的陰極發(fā)射電子，經(jīng)陽(yáng)極電場(chǎng)篩選后形成單向電流，雖效率低下（ 5%）且體積龐大（長(zhǎng) 15 厘米），卻標(biāo)志著人類掌握電流單向控制的重要技術(shù)。1920 年代，美國(guó)科學(xué)家皮卡德發(fā)現(xiàn)方鉛礦晶體的整流特性，催生 “貓須探測(cè)器”—— 通過(guò)細(xì)金屬絲與礦石接觸形成 PN 結(jié)，雖需手動(dòng)調(diào)整觸絲位置（精度達(dá) 0.1mm），卻讓收音機(jī)成本從數(shù)百美元降至十美元，成為大眾消費(fèi)品。寶安區(qū)TVS瞬態(tài)抑制二極管聯(lián)系方式碳化硅二極管憑借高耐壓、耐高溫特性，在光伏逆變器中大幅提升能量轉(zhuǎn)換效率，降低系統(tǒng)損耗。

1990 年代，寬禁帶材料掀起改變：碳化硅（SiC）二極管憑借 3.26eV 帶隙和 2.5×10? V/cm 擊穿場(chǎng)強(qiáng)，在電動(dòng)汽車 OBC 充電機(jī)中實(shí)現(xiàn) 1200V 高壓整流，正向壓降 1.5V（硅基為 1.1V 但需更大體積），效率提升 5% 的同時(shí)體積縮小 40%；氮化鎵（GaN）二極管則在射頻領(lǐng)域稱雄，其電子遷移率達(dá)硅的 20 倍，在手機(jī)快充電路中支持 1MHz 開(kāi)關(guān)頻率，使 100W 充電器體積較硅基方案減小 60%。寬禁帶材料不 突破物理極限，更推動(dòng)二極管從 “通用元件” 向 “場(chǎng)景定制化” 轉(zhuǎn)型，成為新能源與通信改變的重要推手。

碳化硅（SiC）：3.26eV 帶隙與 2.5×10? V/cm 擊穿場(chǎng)強(qiáng)，使 C4D201（1200V/20A）等器件在光伏逆變器中效率突破 98%，較硅基方案體積縮小 40%，同時(shí)耐受 175℃高溫，適配電動(dòng)汽車 OBC 充電機(jī)的嚴(yán)苛環(huán)境。在 1MW 光伏電站中，SiC 二極管每年可減少 1500 度電能損耗，相當(dāng)于 9 戶家庭的年用電量。 氮化鎵（GaN）：電子遷移率達(dá) 8500cm2/Vs（硅的 20 倍），GS61008T（650V/30A）在手機(jī) 100W 快充中實(shí)現(xiàn) 1MHz 開(kāi)關(guān)頻率，正向壓降 0.8V，充電器體積較傳統(tǒng)硅基方案縮小 60%，充電效率提升 30%，推動(dòng) “氮化鎵快充” 成為市場(chǎng)主流，目前全球超 50% 的手機(jī)快充已采用 GaN 器件。二極管在電路中可起到整流、檢波、限幅、鉗位等多種重要作用。

PN 結(jié)是二極管的結(jié)構(gòu)，其單向?qū)щ娦栽从谳d流子的擴(kuò)散與漂移運(yùn)動(dòng)。當(dāng) P 型（空穴多）與 N 型（電子多）半導(dǎo)體結(jié)合時(shí)，交界處形成內(nèi)建電場(chǎng)（約 0.7V 硅材料），阻止載流子進(jìn)一步擴(kuò)散。正向?qū)〞r(shí)（P 接正、N 接負(fù)），外電場(chǎng)削弱內(nèi)建電場(chǎng)，空穴與電子大量穿越結(jié)區(qū)，形成低阻通路，硅管正向壓降約 0.7V，電流與電壓呈指數(shù)關(guān)系（I=I S(e V/V T?1)，VT≈26mV）。反向截止時(shí)（P 接負(fù)、N 接正），外電場(chǎng)增強(qiáng)內(nèi)建電場(chǎng)，少數(shù)載流子（P 區(qū)電子、N 區(qū)空穴）形成漏電流（硅管＜1μA），直至反向電壓達(dá)擊穿閾值（如 1N4007 耐壓 1000V）。此特性使 PN 結(jié)成為整流、開(kāi)關(guān)等應(yīng)用的基礎(chǔ)，例如 1N4148 開(kāi)關(guān)二極管利用 PN 結(jié)電容充放電，實(shí)現(xiàn) 4ns 級(jí)快速切換。瞬態(tài)電壓抑制二極管（TVS）能快速響應(yīng)過(guò)電壓，保護(hù)電路元件。寶安區(qū)TVS瞬態(tài)抑制二極管聯(lián)系方式

電視機(jī)的電源電路和信號(hào)處理電路中，二極管發(fā)揮著不可或缺的作用。番禺區(qū)工業(yè)二極管市場(chǎng)價(jià)格

1955 年，仙童半導(dǎo)體的 “平面工藝” 重新定義制造標(biāo)準(zhǔn)：首先通過(guò)高溫氧化在硅片表面生成 50nm 二氧化硅層（絕緣電阻＞1012Ω?cm），再利用光刻技術(shù)（紫外光曝光，分辨率 10μm）刻蝕出 PN 結(jié)窗口，通過(guò)磷擴(kuò)散（濃度 101?/cm3）形成 N 型區(qū)域。這一工藝將漏電流從鍺二極管的 1μA 降至硅二極管的 1nA，同時(shí)實(shí)現(xiàn) 8 英寸晶圓批量生產(chǎn)（單片成本從 10 美元降至 1 美元），使二極管從實(shí)驗(yàn)室走向大規(guī)模商用。1965 年，臺(tái)面工藝（Mesat Process）進(jìn)一步優(yōu)化結(jié)邊緣形狀，通過(guò)化學(xué)腐蝕形成 45° 傾斜結(jié)面，使反向耐壓從 50V 躍升至 2000V，適用于高壓硅堆（如 6kV/50A）在電力系統(tǒng)中的應(yīng)用。 21 世紀(jì)后，封裝工藝成為突破重點(diǎn)：倒裝焊技術(shù)（Flip Chip）將引腳電感從 10nH 降至 0.5nH，使開(kāi)關(guān)二極管的反向恢復(fù)時(shí)間縮短至 5ns番禺區(qū)工業(yè)二極管市場(chǎng)價(jià)格