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浙江喬邦塑業有限公司2025-04-05
真空鍍膜以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，在真空中進行材料蒸發或濺射，進而在基材表面形成薄膜。
技術分為物***相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類。物***相沉積主要包括真空蒸發鍍、真空濺射鍍等方法，而化學氣相沉積則是通過化學反應在基體上制出金屬或化合物薄膜。
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