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天津納米壓印可以免稅嗎

來源: 發布時間:2021-06-06

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。天津納米壓印可以免稅嗎

EVG ® 520 HE熱壓印系統

特色:經通用生產驗證的熱壓印系統,可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 上海晶圓納米壓印IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統,是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術,在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。

納米壓印光刻(NIL)技術

EVG是納米壓印光刻(NIL)設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。


其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細的參數,請聯系我們岱美有限公司。


**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。鏡片成型納米壓印國內用戶

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。天津納米壓印可以免稅嗎

EVG ® 770特征:

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理


EVG ® 770技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印記區域:長達50 x 50毫米

自動分離:支持的


前處理:涂層:液滴分配(可選)


天津納米壓印可以免稅嗎

岱美儀器技術服務(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司。岱美儀器技術服務作為磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】的企業之一,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念,影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注自身,在風云變化的時代,對自身的建設毫不懈怠,高度的專注與執著使岱美儀器技術服務在行業的從容而自信。

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