曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯...
EVG ? 520 HE特征: 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執行 EVG ? 520 HE技術數據 加熱器尺寸:150毫米,200毫米 比較大基板尺寸:150毫米,200毫米 **小基板尺寸:單芯片,100毫米 比較大接觸力:10、20、60、100 kN 比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C 粘合卡盤系統/對準系統 150毫米加熱器:EVG ? 610,EVG ? 620,EVG...
IQ Aligner?:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統 ■用于光學元件的微成型應用 ■用于全場納米壓印應用 ■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現出色的楔形補償 ■粘合對準和紫外線粘合功能 紫外線壓印_紫外線固化 印章 防紫外線基材 附加印記壓印納米結構分離印記 用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯。 μ-接觸印刷 軟印章 基板上的材料 領取物料,物料轉移,刪除印章 EV...
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了** 新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的Sm...
EVG ? 510 HE特征: 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術數據: 加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米 比較大基板尺寸:150毫米,200毫米 **小基板尺寸:單芯片,100毫米 比較大接觸力:10、20、60 kN 比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C 夾盤系統/對準系統 150毫米加熱器:EVG ? 610,EVG ...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。 EVG的HERCULES ? NIL產品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統達200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術 HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技...
曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯...
EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色:經通用生產驗證的熱壓印系統,可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300...
EV集團和肖特攜手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,這是一個開放式的光刻/納米壓印(NIL)技術創新孵化器,同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機電系統(MEMS)、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領域的**技術集團肖特攜手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓印(NIL)技術在下一代增強現實/混合現實(AR/MR)頭戴顯示設備的波導/...
納米壓印應用三:連續性UV納米壓印 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。EVG6200NT納米壓印可以試用嗎 IQ Align...
曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯...
**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。 WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作...
通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 **小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。江蘇納米壓...
EVG ? 770分步重復納米壓印光刻系統 分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作 EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從** 大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。 EVG770的主要功能包括精確的對準功能,完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 HERCULES ? NIL是完全集成S...
EVG ? 6200 NT特征: 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言) 敏捷處理和轉換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 6200 NT附加功能: 鍵對準 紅外對準 智能NIL ? μ接觸印刷技術數據 晶圓直徑(基板尺寸) 標準光刻:75至200 mm 柔...
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了** 新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的Sm...
UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產品線,包括不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。 EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。 EVG的HERCULES ? NIL產品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統達200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術 HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技...
對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征: 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言) 敏...
首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。 EVG的HERCULES ? NIL產品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統達200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術 HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技...
對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征: 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言) 敏...
通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。高校納米壓印技術服務 Sm...
曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板,可以實現亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸,實現結構在非平面基底上的壓印復制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀,結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術,中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結構層和彈性基底層。(來自網絡,侵權請聯...
EVG610特征: 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG610附加功能: 鍵對準 紅外對準 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術數據: 晶圓直徑(基板尺寸) 標準光刻:比較大150...
SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板...
HERCULES?NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產 ■批量生產低至40 nm的結構或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板) ■結合了預處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL?技術 ■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章 ■具備工作印章制造能力 EVG?770:連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作 ■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL?的納米結構 ■不同類型的母版的簡單實現 ■可變的光刻膠分配模式 ■分配,壓印和脫模過程中...
SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。臺積電納米壓印摩擦學應用...
EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術,在100毫米范圍內。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNI...
EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色:經通用生產驗證的熱壓印系統,可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法。EVG520 H...