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【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成...

【如何改善由于設計膜系導致的光譜特性不良】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術要求的邊緣，制造中稍有偏差就導致分光不良。膜系設計中選用膜料的折射率應與使用膜料使用機臺吻合。膜系設計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應氣體由陽極底部進入放電區內參與放電，放電區內由磁鐵產生如圖所示的錐形磁場，在放電區的上部安裝有補償或中和陰極。根據工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應氣體可以使用氮氣、氧氣或碳氫等多種氣體。放電區上部陰極燈絲加熱后產...

【炫彩的搬運工——UV轉印技術】 在完成母模制作的基礎之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉印設備上的復制模具，即可開始炫彩紋理的轉印工序。 工序流程如下： ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據不同復制模具尺寸...

【光譜特性不良產生的原因】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術要求的邊緣，制造中稍有偏差就導致分光不良。設計的膜料折射率與實際的折射率有差異,或發生了變異。實被的中心波長(膜厚)與希望達到的中心波長(膜厚)有差異,或發生了変異。( tool...

【光學真空設備應用領域】 光學真空鍍膜設備是現代光學和光電系統*重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術和工業領域，技術突破往往成為現代光學和光電子系統加速發展的主要原因。光學鍍膜的技術性能和可靠性直接影響到應用系統的性能、可靠性和成本...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表...

【光學鍍膜機維護與保養之光路的檢修與維護】光路調整的先決條件是：確保直流穩定電源、調制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉換放大器、光學膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉換放大器、光學膜厚測量儀的接地點，必須單獨歸至主機接點牢固接地。 導磁板及...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產方式包括間歇式和連續式生產法，其中連續式生產法又可分為水平和垂直連續式生產兩種。其中，水平連續式生產法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優點...

【光學鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、變se分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &se光顯示、se光反射、偽chao及有價證券之防止 ...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產方式包括間歇式和連續式生產法，其中連續式生產法又可分為水平和垂直連續式生產兩種。其中，水平連續式生產法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優點...

【常見的光學鍍膜材料】常見的光學鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點：無se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。 2、二氧化硅材料特點：無se透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，...

【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經薄膜上表面反射后得第yi束光，折射光經薄膜下表面反射，又經上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側，由同一入射振動分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源)，則只能...

【光學鍍膜機的維護與保養之電子qiang安裝與維護】電子qiang蒸發源控制系統是由電子qiang燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅動電源、蒸發源等組成一個電子qiang控制電柜。 電子qiang控制電柜內含有高壓，在工作前必須保證柜門各個聯鎖裝置正常工作...

【如何清洗光學鍍膜機】設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可...

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表...

【光學薄膜的定義】 光學薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層,通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態的光.。 光學...

【光學鍍膜法的應用之化學鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環保的負擔。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃...

【光學鍍膜之蒸發源的類型和特點】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質 。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質...

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成...

【光學真空鍍膜機的應用】光學真空鍍膜機無論對于手機，數碼產品，還是衛浴都有同樣的裝飾性要求產品，光學鍍膜通過底層鍍制顏se膜和透明介質多層膜實現多種顏se，se調和金屬光澤，并能配有絲印，熱轉印，鐳雕和拉絲工藝，得到多種se調的炫彩光澤，光學鍍膜加強條紋和圖案...

【光學鍍膜機電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發材料的蒸汽發生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線，即產生打火。另外，若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應氣體由陽極底部進入放電區內參與放電，放電區內由磁鐵產生如圖所示的錐形磁場，在放電區的上部安裝有補償或中和陰極。根據工作要求該型號離子源的工作氣體為氬氣，反應氣體可以使用氮氣、氧氣或碳氫等多種氣體。放電區上部陰極燈絲加熱后產...

【光學濾光片相關名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實際應用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就...

【光學鍍膜之什么是蒸發鍍】通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方...

【光學鍍膜機是什么】光學鍍膜設備可鍍制層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系，能夠實現多層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源...

【光學薄膜的應用前景】光電信息產業中*有發展前景的通訊、顯示和存儲三大類產品都離不開光學薄膜，如投影機、背投影電視機、數碼照相機、攝像機、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學薄膜的性能在很大程度上決定了這些產品的*終性能。光學薄膜正在突...

【光學薄膜的特點】表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的；可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質...

【光學鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應用功能不會失效。想要達到這個目的，一般而言這層薄膜必須具有堅牢的附著力、很低的內應力、針kong密度很少、夠強的機械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成...

【光學薄膜的研究新進展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認為是自然界中*硬的物質。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態的炭黑、六方片狀結構的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學惰...