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半導體封裝領域 ? 芯片與基板焊接： ? 采用SAC305焊片焊接QFP、BGA等封裝的芯片與引線框架/陶瓷基板，確保電連接與機械強度。 ? 場景應用（如功率芯片）使用高鉛焊片，耐受200℃以上長...

按厚度劃分的通用規(guī)格 超薄錫片 ? 0.03~0.1mm： 典型應用于電子焊接（如BGA錫球、精密芯片封裝）、科研材料或特殊電子元件，要求高純度（99.99%以上）、低氧化率，確保焊接精度和導電性。 ...

吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證，吉田半導體填補國內(nèi)光刻膠空白。 吉田半導體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國...

耐腐蝕性的優(yōu)化與影響因素 1. 純度與合金成分的影響 ? 純錫：耐腐蝕性好，尤其適合食品接觸或高純度要求場景。 ? 錫合金：添加鉛、銅、銀等元素可能輕微影響耐腐蝕性（如Sn-Pb焊錫在潮濕環(huán)境中腐...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

低溫款：微型器件的 "溫柔焊將" 面對可穿戴設備、藍牙耳機等微型化產(chǎn)品，YT-628 低溫錫膏以 Sn42Bi58 合金帶來驚喜 ——20~38μm 超精細顆粒，精細填充 0.3mm 以下焊盤，200g/100g 靈活規(guī)格適配小批量生產(chǎn)。無鹵配方搭...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用...

【多品種混線生產(chǎn)方案】吉田錫膏：助力柔性制造高效切換 多品種小批量生產(chǎn)的柔性產(chǎn)線，需頻繁切換錫膏型號，吉田錫膏以兼容性設計與便捷包裝，提升混線生產(chǎn)效率。 快速切換，減少停機時間 100g 針筒裝支持 3 分鐘內(nèi)完成設備換型，200g 便攜...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導體光刻膠業(yè)務營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術(shù)攻關(guān)。 2. 價格競爭的“雙重擠壓...

關(guān)鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整），需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）。 前烘（Soft Bake）： ...

吉田半導體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效。 針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題，吉田半導體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%，密集...

【維修與返修市場方案】吉田錫膏：便捷高效的焊接助手 在電子維修與返修場景中，快速精細的焊接至關(guān)重要。吉田錫膏提供多規(guī)格、多熔點選擇，助力維修工作高效完成。 多熔點適配，應對不同需求 低溫 138℃（YT-628）適合拆除熱敏元件，中...

吉田半導體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質(zhì)，本地化服務支持 柯圖泰全系列感光膠依托進口技術(shù)，提供高性價比的絲網(wǎng)印刷解決方案。 吉田半導體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國先進配方，分辨率達 120 ...

感光機制 ? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。 ? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調(diào)配，感光度高（曝光時間...

工業(yè)制造與材料加工 襯墊與密封材料 ? 錫片因延展性強、耐低溫，可作為高溫或高壓環(huán)境下的密封墊片（如管道連接、機械部件密封），尤其適合需要無火花、低摩擦的場景（如易燃易爆環(huán)境）。 合金基材與鍍層 ...

固態(tài)電池的「錫基電解質(zhì)」：中科院團隊研發(fā)的錫-鑭-氧固態(tài)電解質(zhì)片，離子電導率達10?3 S/cm，可承受4V以上電壓，配合金屬鋰負極，使電池能量密度突破500Wh/kg，為電動汽車「充電10分鐘續(xù)航400公里」提供可能。 納米錫片的「催化...

【工業(yè)設備焊接方案】吉田錫膏：應對復雜工況的可靠之選 工業(yè)控制設備常面臨振動、高溫、粉塵等嚴苛環(huán)境，焊點的穩(wěn)定性直接影響設備運行。吉田錫膏通過配方優(yōu)化，為工業(yè)電子提供持久可靠的連接。 強化性能，適應嚴苛環(huán)境 高溫無鉛 SD-588（Sn9...

【高性價比之選】吉田普通有鉛錫膏：傳統(tǒng)焊接的穩(wěn)定之選 在追求可靠性與成本平衡的傳統(tǒng)電子制造領域，吉田普通有鉛錫膏憑借成熟工藝與穩(wěn)定性能，成為家電、照明、工控設備焊接的優(yōu)先方案！ 經(jīng)典配方， SD-310/317 采用 Sn62.8P...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導體光刻膠業(yè)務營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術(shù)攻關(guān)。 2. 價格競爭的“雙重擠壓...

手機、耳機等消費電子元件密集，焊點精度直接影響產(chǎn)品可靠性。吉田錫膏憑借細膩顆粒與穩(wěn)定性能，成為消費電子制造的可靠選擇。 細膩顆粒應對微型化挑戰(zhàn) 中溫無鉛 SD-510（Sn64Bi35Ag1）顆粒度 25~45μm，在 0.4mm 間距 QFP 封裝...

大規(guī)格 + 高觸變，適配功率模塊 500g 標準包裝滿足新能源汽車電控模塊的大規(guī)模生產(chǎn)需求，觸變指數(shù) 4.8±0.2，即使在 2mm 厚銅基板上也能保持膏體挺立，避免塌陷與橋連。針對 IGBT 模塊的多層焊接工藝，顆粒度均勻性控制在 ±5μm，確保各...

吉田半導體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域，通過差異化技術(shù)（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領域（如第三代半導體、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料...

【儀器儀表焊接方案】吉田錫膏：助力精密儀器高精度連接 萬用表、示波器、傳感器儀表等精密設備對焊點的導電性和長期穩(wěn)定性要求極高。吉田錫膏以均勻工藝和低漂移性能，成為儀器儀表焊接的理想選擇。 低電阻低漂移，保障測量精度 無鉛系列焊點電阻率≤1...

大規(guī)格 + 高觸變，適配功率模塊 500g 標準包裝滿足新能源汽車電控模塊的大規(guī)模生產(chǎn)需求，觸變指數(shù) 4.8±0.2，即使在 2mm 厚銅基板上也能保持膏體挺立，避免塌陷與橋連。針對 IGBT 模塊的多層焊接工藝，顆粒度均勻性控制在 ±5μm，確保各...

關(guān)鍵工藝流程 涂布與前烘： ? 旋涂或噴涂負性膠，厚度可達1-100μm（遠厚于正性膠），前烘溫度60-90℃，去除溶劑并增強附著力。 曝光： ? 光源以**汞燈G線（436nm）**為主...

耐腐蝕性的化學機制 表面氧化膜的保護作用 ? 錫（Sn）在常溫下與空氣中的氧氣反應，生成一層致密的二氧化錫（SnO?）薄膜，該膜附著性強，能有效阻止氧氣和水汽進一步滲透至金屬內(nèi)部，形成“自我保護”機制。 ...

功率模塊、射頻器件常用的陶瓷基板（Al?O?、AlN）表面能低，焊接難度大。吉田錫膏通過特殊助焊劑配方，實現(xiàn)陶瓷與金屬層的度連接，成為高導熱器件焊接的推薦方案。 界面張力優(yōu)化，提升潤濕性 針對陶瓷基板表面特性，高溫無鉛 SD-588（Sn9...

設備與工具要求不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 焊接設備 需適配高溫的設備：- 回流焊爐：需更高溫區(qū)（如峰值溫度255℃~265℃）- 波峰焊：需耐鉛-free焊料的鈦合金焊料槽（普通銅槽易被錫腐蝕）- 手工焊臺：功率≥60W，帶溫度...

? 正性光刻膠 ? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。 ? 技術(shù)優(yōu)勢：采用...