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國產(chǎn)替代進(jìn)程加速 日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后，國內(nèi)企業(yè)加速驗(yàn)證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單，二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610，已通...

成分與環(huán)保性

鋰電池的「儲(chǔ)鋰新希望」：科研團(tuán)隊(duì)開發(fā)的錫碳合金負(fù)極片（錫含量50%），利用錫的「合金化儲(chǔ)鋰」機(jī)制（每克錫可嵌入4.2個(gè)鋰原子），使電池能量密度從180mAh/g提升至350mAh/g，未來有望讓電動(dòng)車?yán)m(xù)航突破1000公里。 3D打印的...

光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠） 液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過程中，光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案，包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率、對(duì)比度、視角...

原料準(zhǔn)備 ? 主要成分：樹脂（成膜劑，如酚醛樹脂、聚酰亞胺等）、感光劑（光引發(fā)劑或光敏化合物，如重氮萘醌、光刻膠單體）、溶劑（溶解成分，如丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA））、添加劑（調(diào)節(jié)粘度、感光度、穩(wěn)定性等，如表面活性劑、穩(wěn)定劑）。 ...

上游原材料： ? 樹脂：彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）。 ? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑，累計(jì)形成噸級(jí)訂單；威邁芯材合肥基...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用...

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域，通過差異化技術(shù)（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域（如第三代半導(dǎo)體、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料...

晶粒尺寸的「強(qiáng)度密碼」：通過控制軋制溫度（150℃以下），錫片的晶粒尺寸可細(xì)化至50μm以下，使抗拉強(qiáng)度從20MPa提升至50MPa，這種「細(xì)晶強(qiáng)化」讓超薄錫片（0.05mm）能承受100g的拉力而不斷裂，滿足柔性電路板的彎曲需求（彎折半徑＜5mm）。 ...

生產(chǎn)設(shè)備與工藝：從設(shè)計(jì)到制造的“木桶效應(yīng)” 前端設(shè)備的進(jìn)口依賴 光刻膠生產(chǎn)所需的超臨界流體萃取設(shè)備、納米砂磨機(jī)等關(guān)鍵裝備被德國耐馳、日本光洋等企業(yè)壟斷。國內(nèi)企業(yè)如拓帕實(shí)業(yè)雖推出砂磨機(jī)產(chǎn)品，但在研磨精度（如納米...

國家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程...

半導(dǎo)體集成電路 ? 應(yīng)用場(chǎng)景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu)； ? 封裝工藝：負(fù)性膠用于凸點(diǎn)（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

現(xiàn)代科技的「焊接使命」：20世紀(jì)80年的時(shí)候，貼裝技術(shù)（SMT）推動(dòng)錫片向微米級(jí)進(jìn)化，0.4mm引腳間距的QFP芯片焊接成為可能；21世紀(jì)初，無鉛化浪潮促使錫片合金配方從「經(jīng)驗(yàn)試錯(cuò)」轉(zhuǎn)向「分子模擬設(shè)計(jì)」，通過原理計(jì)算優(yōu)化Ag、Cu原子排列，焊點(diǎn)可靠性提升5...

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體，實(shí)現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-...

工業(yè)制造與材料加工 襯墊與密封材料 ? 錫片因延展性強(qiáng)、耐低溫，可作為高溫或高壓環(huán)境下的密封墊片（如管道連接、機(jī)械部件密封），尤其適合需要無火花、低摩擦的場(chǎng)景（如易燃易爆環(huán)境）。 合金基材與鍍層 ...

正性光刻膠 半導(dǎo)體分立器件制造：對(duì)于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件，正性光刻膠可實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖形化加工，滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時(shí)，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對(duì)比度，能精確刻畫器件的結(jié)構(gòu)，提高器件性能。 ...

國家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細(xì)分場(chǎng)景： ? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14n...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費(fèi)用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術(shù)攻關(guān)。 2. 價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)的“雙重?cái)D壓...

社會(huì)學(xué)：錫片見證的「生活變遷」 從古代貴族用的錫制酒具，到現(xiàn)代人人可及的馬口鐵飲料罐，錫片的普及史反映了材料民主化進(jìn)程；而無鉛錫片的推廣，更體現(xiàn)了社會(huì)對(duì)「科技倫理」的重視——在追求效率的同時(shí)，不忘守護(hù)人類與環(huán)境的長遠(yuǎn)健康。 哲...

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域 半導(dǎo)體制造： ? 在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。 印刷電路板（PCB）： ? 保護(hù)電路圖形或作為...

人才與生態(tài)：跨學(xué)科團(tuán)隊(duì)的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)、半導(dǎo)體工藝、分析檢測(cè)等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進(jìn)入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經(jīng)驗(yàn)的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導(dǎo)師制”培養(yǎng)人才，...

其他參數(shù)規(guī)格 純度： ? 純錫片純度通?！?9.95%，電子級(jí)可達(dá)99.99%以上；合金錫片（如錫銅、錫鋅鎳）根據(jù)用途調(diào)整成分（如焊料中錫含量常為63%Sn-37%Pb，或無鉛化的99.3Sn-0.7Cu）。 ...

助焊劑與潤濕性處理不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 潤濕性問題 純錫表面張力大（約500 mN/m），潤濕性差，焊點(diǎn)易出現(xiàn)不規(guī)則邊緣或漏焊。 錫鉛合金表面張力?。s450 mN/m），熔融后自然鋪展性好，焊點(diǎn)飽滿圓潤。 助焊劑...

半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域 ? 芯片與基板焊接： ? 采用SAC305焊片焊接QFP、BGA等封裝的芯片與引線框架/陶瓷基板，確保電連接與機(jī)械強(qiáng)度。 ? 場(chǎng)景應(yīng)用（如功率芯片）使用高鉛焊片，耐受200℃以上長...

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì)，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印...

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì) 更高分辨率需求： ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問題（目標(biāo)＜5nm），通過納米顆粒分散技術(shù)或新型聚合物設(shè)計(jì)改善。 缺陷控制： ? 半導(dǎo)...

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域 光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域： 半導(dǎo)體制造 ? 功能：在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案，作為蝕刻或離子注入的掩膜。 ? 分類： ...

工藝流程 ? 目的：去除基板表面油污、顆粒，增強(qiáng)感光膠附著力。 ? 方法： ? 化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）； ? 表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板...

物理與機(jī)械性能 無鉛錫片 有鉛錫片 熔點(diǎn) 較高，通常在217℃~260℃之間（取決于合金成分，如SAC305熔點(diǎn)217℃，Sn-Cu合金熔點(diǎn)227℃），焊接需更高溫度（240℃~260℃）。 較低，共晶合金（63Sn-37Pb）熔點(diǎn)183...