Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造，滿足日益增長的微電子和光電子器件對精確結構的需求。德國工業級灰度光刻

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印 。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項**技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。德國超高速灰度光刻微納光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術。

這款灰度光刻設備還具備智能化的特點。它配備了先進的自動化控制系統，可以實現自動調節和監控，減少了人工操作的需求，提高了生產線的穩定性和可靠性。同時，設備還具備故障自診斷和遠程監控功能，及時發現和解決問題，減少了生產線的停機時間，提高了生產效率。這款設備還具備良好的適應性和可擴展性。它可以適應不同材料和工藝的加工需求，為我們的生產線提供了更大的靈活性。同時，設備還支持模塊化設計，可以根據需要進行擴展和升級，滿足我們未來的生產需求。這款全新的灰度光刻設備為我們的生產線帶來了巨大的改變。它的精度、穩定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求，提高產品質量和生產效率。我們相信，有了這款設備的加入，我們的公司將迎來更加美好的未來。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統光刻技術中存在的誤差和缺陷問題。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。與傳統的光刻技術相比，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優勢。2PP灰度光刻激光直寫

灰度光刻技術是一種非接觸、高精度的光刻技術，具有較高的靈活性和自由度。德國工業級灰度光刻

這款灰度光刻設備具備出色的精度和穩定性。通過先進的光刻技術，它能夠在微米級別上進行精確的圖案制作，確保產品的質量和精度達到比較高水平。同時，設備的穩定性也得到了極大的提升，減少了生產過程中的誤差和損耗，提高了生產效率。這款設備具備高效的生產能力。它采用了快速曝光和快速開發的技術，**縮短了生產周期。相比傳統的光刻設備，它的生產速度提高了30%，提升了我們的生產效率。同時，設備還具備多通道同時加工的能力，可以同時處理多個產品，進一步提高了生產效率和產能。德國工業級灰度光刻