為了制作由3D工程細胞微環境制成的體外細胞培養物,科學家們利用雙光子聚合技術(2PP)來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架,該仿生幾何結構影響膠質母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中,細胞可以在定制3D支架幾何結構的引導下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發生雙光子吸收的光聚合反應可實現在亞微米范圍內打印**精細的3D特征結構。此外,這種增材制造技術可在微米級別實現高度三維設計自由度,并以比較高精度模擬三維細胞微環境。 增材制造技術具有高的堅固性,穩定性,耐用性。浙江微光學增材制造無掩膜光刻
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。
北京實驗室增材制造三維光刻3D打印技術可用于制造復雜的工具和模具。
一般通俗地稱增材制造為3D打印,而事實上3D打印只是增材制造工藝的一種,它不是準確的技術名稱。增材制造指通過離散-堆積使材料逐點逐層累積疊加形成三維實體的技術。根據它的特點又稱增材制造,快速成形,任意成型等。增材制造通過降低模具成本,減少材料,減少裝配,減少研發周期等優勢來降低企業制造成本,提高生產效益。具體優勢如下:與傳統的大規模生產方式相比,小批量定制產品在經濟上具有吸引力;直接從3DCAD模型生產意味著不需要工具和模具,沒有轉換成本;以數字文件的形式進行設計方便共享,方便組件和產品的修改和定制;該工藝的可加性使材料得以節約,同時還能重復利用未在制造過程中使用的廢料(如粉末、樹脂)(金屬粉末的可回收性估計在95-98%之間);新穎、復雜的結構,如自由形式的封閉結構和通道,是可以實現的,使得部件的孔隙率非常低;訂貨減少了庫存風險,沒有未售出的成品,同時也改善了收入流,因為貨物是在生產前支付的;分銷允許本地消費者/客戶和生產者之間的直接交互。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。
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Nanoscribe是非常獨特的納米和微米級3D打印技術。該公司成立于2007年,目前已經在激光光刻行業處于領頭的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系統主要通過在微尺度上運用激光來固化感光材料。3D打印材料主要包括液態的光敏材料和固態的旋涂光刻材料。憑著其獨特的微尺度3D 打印技術與人性化的軟件,Nanoscribe毫無疑問是增材制造領域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統來構建世界上特別小的指尖陀螺, 該迷你玩具的寬度只為100微米(與人類頭發的寬度相當) Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解金屬材料增材制造技術。湖北微納機器人增材制造多少錢
激光增材制造可以快速構建復雜的三維結構。浙江微光學增材制造無掩膜光刻
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。浙江微光學增材制造無掩膜光刻