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湖南實驗室Nanoscribe上海

來源: 發布時間:2024-06-03

   對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰提供了答案,并為進一步改進和新的創新奠定了基礎納米尺度結構制造,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。湖南實驗室Nanoscribe上海

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造公司,一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。


湖北2PPNanoscribe微納加工系統生物醫學應用,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭       

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡 更多有關微納3D打印產品和技術咨詢,歡迎聯系 納糯三維科技(上海)有限公司。

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。 Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人等等。浙江工業級Nanoscribe中國分公司

Nanoscribe技術在微納加工、生物醫學和光學領域有廣泛應用。湖南實驗室Nanoscribe上海

Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優越的打印質量的同時兼顧打印速度,實現自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測,確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖,實現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態體素調整需要相對較少的打印層次,即可實現具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時,其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場上快的增材制造技術,非常適用于3D納米和微納加工,在滿足優越打印質量的前提下,其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。湖南實驗室Nanoscribe上海

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