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湖北2GLNanoscribe中國分公司

來源: 發布時間:2024-06-04

Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域,它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域,它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域,Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域,以及制作極小的手術工具,用于顯微外科手術。


Nanoscribe的技術能夠實現微米級別的精確打印,為科學研究和工業應用提供了全新的可能性。湖北2GLNanoscribe中國分公司

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IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭,包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。  重慶微納Nanoscribe3D微納加工更多有關3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維。

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。


Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現優異的打印質量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光子封裝領域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。想要了解增材制造和傳統減材制造的區別,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造,一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。

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通過使用Nanoscribe的3D打印系統,科學家們實現了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導的微觀結構。湖北2GLNanoscribe中國分公司

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。


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