Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。常見的3D打印技術有哪些？歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。德國高精度3D打印3D微納加工

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。江蘇TPP3D打印三維微納米加工系統微納3D打印的精度能達到細觀、微觀和納觀（即十億分之一米）級別。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。歡迎咨詢。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討3D打印產業分析。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調制速率動態調整激光功率。Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統。北京工業級3D打印3D微納加工

Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場。德國高精度3D打印3D微納加工

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作德國高精度3D打印3D微納加工