Nanoscribe是非常獨特的納米和微米級3D打印技術。該公司成立于2007年,目前已經在激光光刻行業處于領頭的地位。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT光刻系統主要通過在微尺度上運用激光來固化感光材料。3D打印材料主要包括液態的光敏材料和固態的旋涂光刻材料。憑著其獨特的微尺度3D打印技術與人性化的軟件,Nanoscribe毫無疑問是增材制造領域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統來構建世界上特別小的指尖陀螺,該迷你玩具的寬度只為100微米(與人類頭發的寬度相當)增材制造為創新設計提供了更多可能性。廣東德國增材制造工藝
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發商,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(MEMS)應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度、廣東高精度增材制造多少錢3D打印技術可用于制造復雜的工具和模具。
Nanoscribe,基于雙光子聚合(2PP)原理的3D微納加工的先驅品牌,致力于為各行業提供高效、精密的增材制造解決方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系統是Nanoscribe的旗艦產品系列,其獨特的2PP技術可以實現微米級別的精度和高度復雜性的結構,是目前市場上**的3D微納加工設備之一。與其他3D打印技術相比,NanoscribePhotonicProfessional具有更高的精度和更大的自由度,可以制造出極其細致的結構和復雜的幾何形狀。這一特點使得Nanoscribe在微納電子、生物醫學、光電子等領域有著***的應用。用戶可以使用NanoscribePhotonicProfessional快速打印出高質量的微米級別的器件和樣品,**提高了研究和生產的效率和質量。
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點增材制造有助于提高制造效率和降低成本。
增材制造技術是指基于離散-堆積原理,由零件三維數據驅動直接制造零件的科學技術體系。基于不同的分類原則和理解方式,增材制造技術還有快速原型、快速成形、快速制造、3D打印等多種稱謂,其內涵仍在不斷深化,外延也不斷擴展,這里所說的“增材制造”與“快速成形”、“快速制造”意義相同。工業化的LSF-V大型激光立體成形裝備所謂數字化增材制造技術就是一種三維實體快速自由成形制造新技術,它綜合了計算機的圖形處理、數字化信息和控制、激光技術、機電技術和材料技術等多項高技術的優勢,學者們對其有多種描述。西北工業大學凝固技術國家重點實驗室的黃衛東教授稱這種新技術為“數字化增材制造”,中國機械工程學會宋天虎秘書長稱其為“增量化制造”,其實它就是不久前引起社會關注的“三維打印”技術的一種。西方媒體把這種實體自由成形制造技術譽為將帶來“第三次工業**”的新技術。3D打印技術可用于制造輕量化零部件。上海工業級增材制造3D微納加工
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Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院,現在在上海設有子公司,在美國設有辦事處。該公司在財務和技術上獲得了蔡司的大力支持,蔡司是德國歷史非常悠久,規模比較大的光學系統制造商之一。納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度比較高。PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產品,在科學研究中得到了廣的應用,并在哈佛大學納米系統中心,加州理工學院,倫敦帝國理工學院,蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。廣東德國增材制造工藝