沈陽油性光刻膠廠家
來源：
發布時間：2025-05-25
? 正性光刻膠
? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。
? 技術優勢：采用進口樹脂及光引發劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求。
? 負性光刻膠
? JT-1000：負性膠，主打優異抗深蝕刻性能，分辨率達3μm，適用于功率半導體、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強腐蝕液處理。
? SU-3：經濟型負性膠，性價比高，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2。
2. 顯示面板光刻膠
? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設計，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規模生產。
? 水性感光膠JT-1200：環保型產品，VOC含量<50g/L，符合歐盟RoHS標準，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細網點，主要供應京東方、TCL等面板廠商。
市場與客戶優勢：全球化布局與頭部客戶合作
全球客戶網絡
產品遠銷全球，與三星、LG、京東方等世界500強企業建立長期合作，在東南亞、北美市場市占率超15%。
區域市場深耕
依托東莞松山湖產業集群，與華為、OPPO等本土企業合作，在消費電子、汽車電子領域快速響應客戶需求。
產業鏈配套優勢：原材料與設備協同
主要原材料自主化
公司自主生產光刻膠樹脂、光引發劑，降低對進口依賴，成本較國際競品低20%。
設備與工藝協同
與國內涂膠顯影設備廠商合作，開發適配國產設備的光刻膠配方，提升工藝兼容性。
差異化競爭策略
在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠），吉田半導體采取跟隨式創新，通過優化現有配方（如提高酸擴散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠），則憑借性價比優勢（價格較進口產品低20%-30%）快速搶占份額，2023年PCB光刻膠市占率突破10%。
前沿技術儲備
公司設立納米材料研發中心，重點攻關分子玻璃光刻膠和金屬有機框架（MOF）光刻膠，目標在5年內實現EUV光刻膠的實驗室級突破。此外，其納米壓印光刻膠已應用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工，分辨率達10nm，為國產存儲廠商提供了替代方案。
發展戰略與行業地位。
不同光刻膠類型的適用場景對比
類型 波長范圍 分辨率 典型應用產品
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導體YK-300系列
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流：JSR ARF系列
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進制程、3D NAND堆疊 研發中（吉田半導體合作攻關）
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環保PCB阻焊層 吉田半導體WT-200系列
總結：多領域滲透的“工業維生素”
光刻膠的應用深度綁定電子信息產業，從半導體芯片的“納米級雕刻”到PCB的“毫米級線路”，再到顯示面板的“色彩精細控制”，其技術參數（分辨率、耐蝕刻性、靈敏度）需根據場景設計。隨著**新能源（車規芯片、光伏）、新型顯示（Micro LED）、先進制造（納米壓印）**等領域的發展，光刻膠的應用邊界將持續擴展，成為支撐制造的關鍵材料。
光刻膠的顯示面板領域。廣西紫外光刻膠供應商半導體材料選吉田，歐盟認證，支持定制化解決方案!沈陽油性光刻膠廠家
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。
負性光刻膠
- SU-3 負性光刻膠：分辨率優異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。
- 負性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規格，具有優異的分辨率、良好的對比度和高曝光靈敏度，光源適應。主要應用于對光刻精度要求高的領域，如半導體器件制造。
- 耐腐蝕負性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風險的光刻工藝，如特殊環境下的半導體加工或電路板制造。
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