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成都進口光刻膠

來源: 發(fā)布時間:2025-05-25

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,批次穩(wěn)定性達 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級,推動 PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進程。
產(chǎn)業(yè)鏈配套:原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展。成都進口光刻膠

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正性光刻膠

  • 半導(dǎo)體分立器件制造:對于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件,正性光刻膠可實現(xiàn)精細(xì)的圖形化加工,滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時,正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對比度,能精確刻畫器件的結(jié)構(gòu),提高器件性能。
  • 微機電系統(tǒng)(MEMS)制造:MEMS 器件如加速度計、陀螺儀等,結(jié)構(gòu)復(fù)雜且尺寸微小。正性光刻膠用于 MEMS 制造過程中的光刻步驟,可在硅片等材料上制作出高精度的微結(jié)構(gòu),確保 MEMS 器件的功能實現(xiàn)。


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作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,加速國產(chǎn)替代進程。

光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠)

  • 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,如分辨率、對比度、視角等。
  • 有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點,而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。


吉田半導(dǎo)體光刻膠,45nm 制程驗證,國產(chǎn)替代方案!

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吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗證,良率達 98% 以上,生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體。山東進口光刻膠多少錢

水性感光膠推薦吉田 JT-1200,水油兼容配方,鋼片加工精度 ±5μm!成都進口光刻膠

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導(dǎo)體、Mini LED)的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢在于技術(shù)全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競爭力。

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